[发明专利]一种高光电转换率晶体硅太阳能电池及其制造方法有效
| 申请号: | 201210394170.3 | 申请日: | 2012-10-17 |
| 公开(公告)号: | CN102881732A | 公开(公告)日: | 2013-01-16 |
| 发明(设计)人: | 刘铸;肖辉;徐哲;冯苑飞 | 申请(专利权)人: | 云南大学 |
| 主分类号: | H01L31/0224 | 分类号: | H01L31/0224;H01L31/0216;H01L31/18 |
| 代理公司: | 昆明知道专利事务所(特殊普通合伙企业) 53116 | 代理人: | 姜开侠;姬介南 |
| 地址: | 650091*** | 国省代码: | 云南;53 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 光电 转换率 晶体 太阳能电池 及其 制造 方法 | ||
1.一种高光电转换率晶体硅太阳能电池,包括晶体硅P-N结、P区背电极,所述的P区背电极与晶体硅P-N结电性连接,晶体硅P-N结之N区表面设置前栅电极,其特征是:所述的前栅电极由电化学沉积形成且与晶体硅P-N结之N区的高导电性金属构成,所述的晶体硅P-N结之N区表面由内至外设置SiO2层和减反射层。
2.根据权利要求1所述的高光电转换率晶体硅太阳能电池,其特征是:所述的前栅电极之主电极包括连接晶体硅P-N结之N区的接触层和其外的高导电性金属传导层,高导电性金属传导层由Cu、Ag、Sn中的一种或两种以上组合沉积而成。
3.根据权利要求1所述的高光电转换率晶体硅太阳能电池,其特征是:所述的前栅电极之细电极位于减反射层之下,所述的减反射层为SiNx或TiO2和/或SiO2反射膜层。
4.一种权利要求1所述的高光电转换率晶体硅太阳能电池的制造方法,将原料硅片依次经过清洗制绒、扩散制成P-N结、去磷硅玻璃与边缘结刻蚀后制备背电极,其特征是:将硅片上的背电极与电解电极、直流电源和电量测量装置连接,并在硅片N区表面敷设栅状遮光板,并将硅片N区置于电解池中的电解液中且正对诱导光源,开启诱导光源,光透过栅状遮光板未遮挡缝隙照在硅片N区并诱导产生光电子,与电解液的金属经电化学沉积于N区表面形成前栅电极,再经高温氧化烧结、电镀、沉积减反射膜后制得高光电转换率晶硅太阳能电池。
5.根据权利要求4所述的高光电转换率晶体硅太阳能电池的制造方法,其特征是:所述的电解电极为Ni-W-P、Co-W-P、Co-W、Ni-W合金或Co、Ni金属型电极。
6.根据权利要求4所述的高光电转换率晶体硅太阳能电池的制造方法,其特征是:所述的电解液为CoSO4或NiSO4电解液,或CoSO4、NiSO4分别与Na2WO4、Na3Cit组成的复合电解液。
7.根据权利要求6所述的高光电转换率晶体硅太阳能电池的制造方法,其特征是:所述的电解液为CoSO4或NiSO4电解液浓度分别为0.01mol/L~1mol/L,或0.01~0.5mol/L 的CoSO4或NiSO4分别与0.01~0.5mol/L的Na2WO4、0.02~1mol/L Na3Cit组成的复合电解液。
8.根据权利要求4所述的高光电转换率晶体硅太阳能电池的制造方法,其特征是:所述的氧化烧结是把硅片置于纯氧气氛或氮氧混合气氛中快速烧结。
9.根据权利要求4所述的高光电转换率晶体硅太阳能电池的制造方法,其特征是:所述的减反射膜采用等离子体增强化学气相沉积、低压化学气相沉积、物理溅射、凝胶溶胶法制备。
10.根据权利要求4所述的高光电转换率晶体硅太阳能电池的制造方法,其特征是:所述的前栅电极上至少电镀沉积一层高导电性金属作为电子传导层,高导电性金属为Cu、Ag、Sn的一种或两种以上任意组合。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的





