[发明专利]一种离线可钢化智能低辐射镀膜玻璃及其制备方法无效
申请号: | 201210393059.2 | 申请日: | 2012-10-16 |
公开(公告)号: | CN102910837A | 公开(公告)日: | 2013-02-06 |
发明(设计)人: | 王少伟;陆卫;陈飞良;俞立明;王晓芳;陈效双 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海技术物理研究所;上海德福光电技术有限公司 |
主分类号: | C03C17/36 | 分类号: | C03C17/36 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人: | 郭英 |
地址: | 200083 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 离线 可钢化 智能 辐射 镀膜 玻璃 及其 制备 方法 | ||
1.一种离线可钢化智能低辐射镀膜玻璃,其特征在于:
在玻璃衬底(1)上依次为低辐射功能膜系(2)、二氧化钒红外辐射智能调节膜系(3)和可离线钢化的氮化硅保护膜(4);
所述的低辐射功能膜系(2)由厚度为5~30nm的纳米单银膜及位于纳米单银膜上层和下层的辅助膜构成,辅助膜由镍铬合金NiCr、氧化锌ZnO、氧化锡SnO2、氧化铝Al2O3、氧化钛TiO2、氮化硅Si3N4、二氧化硅SiO2中的一种或其中的多种沉积层叠构成,厚度为10~50nm;
所述的二氧化钒红外辐射智能调节膜系(3)由诱导结晶层和位于诱导结晶层之上掺杂了大半径金属元素的二氧化钒VO2薄膜构成,其中,诱导结晶层由Si、SiO2、Si3N4、ZnO、TiO2或Al2O3薄膜的一种或其中的多种沉积层叠构成,厚度为20~100nm,掺杂的二氧化钒薄膜厚度为20~300nm;
所述的可离线钢化的氮化硅保护膜(4)厚度为20nm~200nm。
2.根据权利要求1所述的一种离线可钢化智能低辐射镀膜玻璃,其特征在于:所述的二氧化钒红外辐射智能调节膜系(3)中掺杂的大半径金属元素为W、Mo、Al、Ti、Nb和Ta,掺杂方式采用掺杂其中一种元素,或同时掺杂多种元素,优选的,采用单掺或双掺两种将二氧化钒的相变温度从68℃调节至室温附近。
3.根据权利要求1所述的一种离线可钢化智能低辐射镀膜玻璃,其特征在于:所述的低辐射功能膜系(2)、二氧化钒红外辐射智能调节膜系(3)和可离线钢化的氮化硅保护膜(4)中各功能膜的制备方法采用磁控溅射法、化学气相沉积法、真空热蒸发法、溶胶-凝胶法、电镀法、喷雾热解法或脉冲激光沉积法,优选的,采用磁控溅射法。
4.一种离线可钢化智能低辐射镀膜玻璃,其特征在于:
玻璃衬底(1)上依次为二氧化钒红外辐射智能调节膜系(3)、低辐射功能膜系(2)和可离线钢化的氮化硅保护膜(4);
所述的低辐射功能膜系(2)由厚度为5~30nm的纳米单银膜及位于纳米单银膜下层的辅助膜构成,辅助膜为氮化硅厚度为10~200nm的Si3N4;
所述的二氧化钒红外辐射智能调节膜系(3)由诱导结晶层和位于诱导结晶层上掺杂了大半径金属元素的二氧化钒VO2薄膜构成,其中,诱导结晶层由Si、SiO2、Si3N4、ZnO、TiO2或Al2O3薄膜的一种或其中的多种沉积层叠构成,厚度为10~200nm,掺杂的二氧化钒薄膜厚度为10~300nm;
所述的可离线钢化的氮化硅保护膜(4)厚度为20nm~500nm。
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