[发明专利]校正试样和荧光X射线分析装置与荧光X射线分析方法

权利要求书

1.一种校正试样，其为固体校正试样，该校正试样用于在液体试样的荧光X射线分析中，对分析对象金属元素的测定X射线强度的伴随时间的变化进行校正，

其中，包含分析对象金属元素的金属层与厚度为1mm以上的轻元素层重合地形成，该轻元素层中，氢、硼、碳、氮、氧和氟中的至少1种轻元素具有最大摩尔份数，

在上述金属层中，与上述轻元素层相对的那一面的相反侧表面为分析面。

2.一种荧光X射线分析方法，其采用权利要求1所述的校正试样进行液体试样的分析。

3.根据权利要求2所述的荧光X射线分析方法，其还采用本底校正试样，该本底校正试样仅仅由上述轻元素层形成，用于对液体试样的本底X射线强度的伴随时间的变化进行校正。

4.一种荧光X射线分析装置，该荧光X射线分析装置包括：

权利要求1所述的校正试样；

偏差校正机构，其根据上述校正试样的分析对象金属元素的测定X射线强度，对液体试样的测定X射线强度的伴随时间的变化进行校正。

5.根据权利要求4所述的荧光X射线分析装置，还包括本底校正试样，该本底校正试样仅仅由上述轻元素层形成，用于对液体试样的本底X射线强度的伴随时间的变化进行校正，

上述偏差校正机构根据上述校正试样的分析对象金属元素的测定X射线强度和上述本底校正试样的测定X射线强度，对液体试样的测定X射线强度的伴随时间的变化进行校正。