[发明专利]磁记录介质用玻璃基板、及使用了该磁记录介质用玻璃基板的磁记录介质有效
申请号: | 201210385806.8 | 申请日: | 2012-10-12 |
公开(公告)号: | CN103050133A | 公开(公告)日: | 2013-04-17 |
发明(设计)人: | 玉田稔 | 申请(专利权)人: | 旭硝子株式会社 |
主分类号: | G11B5/73 | 分类号: | G11B5/73;G11B5/74 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 高培培;车文 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 记录 介质 玻璃 使用 | ||
技术领域
本发明涉及磁记录介质用玻璃基板、及使用了该磁记录介质用玻璃基板的磁记录介质。
背景技术
作为在磁盘记录装置等中使用的磁记录介质用基板,以往,使用了铝合金基板。然而,近年来,伴随着高密度记录化的要求,与铝合金基板相比更硬且平坦性、平滑性优异的玻璃基板成为主流。
并且,伴随着近年来的磁盘(以下,也称为磁记录介质)的高记录密度化,在磁盘上微细地记录磁信号,伴随于此,信号变得微弱。为了该微弱的信号的读取及记录,要求尽量缩短磁盘与磁头的距离。
为了减小以高速旋转的磁盘与磁头之间的距离、即磁头的浮起量,需要使磁盘的基板即磁记录介质用玻璃基板的表面为极其均一的表面,以避免磁盘与磁头发生接触。
为了减小磁头与磁盘之间的距离,而对于磁记录介质用玻璃基板的表面特性进行了各种讨论。例如在专利文献1中记载了存在于磁盘用玻璃基板的缺陷的形状造成影响,而使表面粗糙度Ra为规定的值以下的情况。
【在先技术文献】
【专利文献】
【专利文献1】国际公开第2010/001843号
然而,在专利文献1中,通过原子间力显微镜只不过对于磁记录介质用玻璃基板的记录再生区域中的有限的一部分的区域评价了表面粗糙度Ra,在记录再生区域的大部分的区域未测定表面粗糙度Ra,因此在记录再生区域上存在表面粗糙度Ra的值增大的区域,有时会成为问题。例如,存在难以减小磁头的浮起量且磁盘与磁头之间的距离不稳定而产生磁噪音等的问题。
另外,在制造磁记录介质时,在磁记录介质用玻璃基板的表面成膜出磁性层,但在磁记录介质用玻璃基板的主平面存在表面粗糙度Ra的值高的区域(表面粗糙度Ra不均一的区域)时,成膜的磁性层的晶粒的尺寸有时会产生不均一性。具有不均一的磁性层(晶粒的尺寸不均一的磁性层)的磁记录介质可能会产生在晶粒的尺寸不均一的区域上的磁噪音增加,基于磁头的向磁记录介质的读写的精度下降、记录密度下降等的问题。
发明内容
本发明鉴于上述现有技术具有的问题,其目的在于提供一种在磁记录介质用玻璃基板的至少一个主平面(记录再生区域)的整个面上,使表面粗糙度Ra处于规定的范围内的磁记录介质用玻璃基板。
为了解决上述课题,本发明提供一种磁记录介质用玻璃基板,具有一对主平面,其特征在于,在至少一个主平面上,在主平面整个面上设定的格子状的各评价区域所测定到的表面粗糙度Ra的最大值为所述表面粗糙度Ra的平均值的1.7倍以下。
【发明效果】
本发明的磁记录介质用玻璃基板(以下,也有时仅记载为“玻璃基板”),在玻璃基板的至少一个主平面的整个面设定的格子状的各评价区域中测定了表面粗糙度(算术平均粗糙度)Ra时,其最大值与 平均值处于规定的关系。
因此,在玻璃基板的至少一个主平面的整个面上,表面粗糙度Ra处于规定的范围内,没有表面粗糙度Ra局部高的区域,从而成为主平面的整个面均一且平滑的玻璃基板。
根据本发明的磁记录介质用玻璃基板,能够提供一种在玻璃基板的表面上形成磁性层时抑制晶粒的粗大化,且具有晶粒的尺寸均一的磁性层的表面平滑的磁记录介质。
由此,能够抑制磁记录介质的磁噪音的发生,使磁记录介质与磁头之间的距离比以往减小,使磁记录介质与磁头之间的距离稳定化,能够使磁记录介质的记录的读写精度和记录密度比以往升高。
附图说明
图1是本发明的第一实施方式的磁记录介质用玻璃基板及其评价区域的说明图。
具体实施方式
以下,参照附图,说明用于实施本发明的方式,但本发明并不局限于下述的实施方式,在不脱离本发明的范围内能够对下述的实施方式施加各种变形及置换。
[第一实施方式]
在本实施方式中,对于本发明的磁记录介质用玻璃基板进行说明。
本发明的磁记录介质用玻璃基板的特征在于,在磁记录介质用玻璃基板的至少一个主平面上,在主平面整个面上设定的格子状的各评价区域所测定到的表面粗糙度Ra的最大值为表面粗糙度Ra的平均值的1.7倍以下。
关于具体的评价方法,使用图1进行说明。
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