[发明专利]一种有机聚硅氧烷及其制备方法、及含该有机聚硅氧烷的化妆品

说明书

技术领域

本发明涉及一种新型有机聚硅氧烷，特别涉及含有甘油基的有机聚硅氧烷、包含该有机聚硅氧烷的化妆品、及该有机聚硅氧烷的制造方法。 

背景技术

现有技术中公开有一种在硅酮上连结甘油基的方法(专利文献1～4)或使用这些方法获得的化合物。这些方法是利用末端具有双键的甘油(具有脂肪族不饱和键的(聚)甘油)或其衍生物与甲基氢聚硅氧烷的催化性加成反应来获得作为目标物的含有甘油基的有机聚硅氧烷。 

但是，此方法无法避免末端具有双键的原料甘油(未反应甘油)的残留，因此，必须进行冲洗或加氢反应等纯化工序。已知进行这些纯化的情况下，随着时间变化会产生难闻的臭味。并且，还已知一种在酸性、或碱性催化剂的存在下使具有羟基的硅酮与缩水甘油反应的方法，但是，存在无法避免因酸、碱催化剂的存在而造成的硅氧烷链的切断、重新排列等问题。并且，需要进行反应后的中和或去除生成的盐等特殊的纯化工序。 

并且，作为含有甘油基的有机聚硅氧烷的应用，还在不断开发应用于化妆品的技术(专利文献2、专利文献4～6)。但是，当先前的含有甘油基的有机聚硅氧烷调配成化妆品时，虽然保水性优异，并具有滋润的触感，但是，在具有粘腻或滋润感的持久性上存在问题。 

[现有技术文献] 

(专利文献) 

专利文献1：日本特开平04-20531号公报 

专利文献2：日本特开平2004-339244号公报 

专利文献3：日本特开昭57-149290号公报 

专利文献4：日本特开平09-278892号公报 

专利文献5：日本特开平09-71504号公报 

专利文献6：日本特开平10-316526号公报 

发明内容

[发明所要解决的问题] 

本发明是鉴于所述情况而完成的，其目的在于提供一种无需必须进行的用于去除未反应甘油的特別纯化工序的新型含有甘油基的有机聚硅氧烷及其制造方法，并且，提供一种不会随着时间变化而产生臭味，并带来无粘腻的滋润触感的化妆品。 

[解决问题的技术手段] 

为解决所述课题，根据本发明，提供一种含有甘油基的有机聚硅氧烷，在构成主链的有机聚硅氧烷链段的至少一个硅原子上，键合了下述通式(1)所表示的含有甘油基的取代基， 

(上述通式(1)中，X、Y分别独立为碳数1～10的2价烃基，m是0～4的整数，Z表示由下述通式(2)所表示的有机基团) 

(上述通式(2)中，R^a是碳数2～12的2价烃基，m′是1～5的整数)。 

该新型含有甘油基的有机聚硅氧烷，无需现有技术中获得含有甘油基的有机聚硅氧烷时所必须的冲洗或加氢反应、中和或去除中和盐等纯化工序，并且，包含该新型含有甘油基的有机聚硅氧烷的化妆品不会随着时间变化而产生臭味，并可以带来无粘腻的滋润触感。 

所述含有甘油基的有机聚硅氧烷，优选为在构成主链的有机聚硅氧烷链段的至少一个硅原子上，键合由下述通式(3)所表示的取代基而成的有机聚硅氧烷与缩水甘油的反应生成物(以下也仅称为反应生成物)， 

(上述通式(3)中，X、Y、及m与前述相同，Z′表示由下述通式(4)所表示的有机基) 

(上述通式(4)中，R^a与前述相同。) 

如此一来，作为前述含有甘油基的有机聚硅氧烷，可以列举上述反应生成物。 

另外，本发明的含有甘油基的有机聚硅氧烷，具有含有由上述通式(2)所表示的直链状甘油基的有机基团，但根据缩水甘油的调配组成，实际的反应生成物中可能会包含异构物，作为异构物，可能会制造还包含支链状的甘油基的有机聚硅氧烷。 

并且，此时，前述含有甘油基的有机聚硅氧烷，优选为由下述平均组成式(5)所表示的化合物， 

(上述式(5)中，R相互独立为选自氢原子、羟基、碳数1～3的烷氧基、碳数1～30的烷基、碳数1～30的氟烷基、碳数6～30的芳基、及碳数7～30的芳烷基的基团，R¹⁰是由前述通式(1)所表示的取代基，R¹¹是选自R¹⁰或R的基团，A是由下述通式(6) 

(上述通式(6)中，R及R¹⁰如上述，Q是氧原子或碳数1～3的2价烃基)