[发明专利]表面曝气氧化沟工艺曝气池恒定液位控制方法在审
| 申请号： | 201210383331.9 | 申请日： | 2012-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN102897908A | 公开（公告）日： | 2013-01-30 |
| 发明（设计）人： | 王淦;侯红勋;彭永臻 | 申请（专利权）人： | 北京工业大学 |
| 主分类号： | C02F3/14 | 分类号： | C02F3/14 |
| 代理公司： | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人： | 刘萍 |
| 地址： | 100124 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 表面 氧化 工艺 曝气池 恒定 控制 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种表面曝气氧化沟工艺曝气池恒定液位控制方法，所使用的装置包括氧化沟（1），倒伞型表面曝气机（2）、出水堰门（3）、其特征在于：所述装置还包括液位计（4）、液位计套筒（5）和液位控制器（6）；液位计和出水堰门均连接到一自动控制装置；液位计（4）设置在液位计套筒（5）内；液位计套筒（5）固定在氧化沟内出水堰门下游2-3m处；
控制方法包括以下步骤：
1）将氧化沟（1）中进水至倒伞表面曝气机的标定液位H0；H0为倒伞型表面曝气机（2）的高效运行工况下的浸没液位或厂家推荐的浸没深度下的液位；
2）设定自动控制装置的液位高度H0，将H0设置为目标液位；
3）氧化沟（1）中倒伞型表面曝气机（2）正常运行，如果液位计（4）的液位高于设定液位5mm，则降低堰门3mm；如果液位计（4）的液位低于设定液位5mm，则升高堰门3mm；将液位控制在H0±5mm之内；出水堰门（3）高度通过电磁阀调节。
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