[发明专利]基于PDMS的纳米级光栅制作方法有效
| 申请号： | 201210381719.5 | 申请日： | 2012-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN102879845A | 公开（公告）日： | 2013-01-16 |
| 发明（设计）人： | 王万军;段俊萍;张斌珍;杨潞霞;崔敏;姚德启;张勇;范新磊 | 申请（专利权）人： | 中北大学 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G03F7/00 |
| 代理公司： | 太原科卫专利事务所(普通合伙) 14100 | 代理人： | 朱源 |
| 地址： | 030051 山*** | 国省代码： | 山西;14 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 基于 pdms 纳米 光栅 制作方法 | ||
1.一种基于PDMS的纳米级光栅制作方法，其特征在于：包括如下步骤：
a、用光刻技术制作光栅母模版（5）；
b、将步骤a中的光栅母模版（5）的光栅图案转移到PDMS薄膜（6）上，制作带有光栅图案的PDMS薄膜（7）；
c、将带有光栅图案的PDMS薄膜（7）夹持在电控平移台上，设定拉伸比例参数后，沿栅线（8）的长度方向双向拉伸带有光栅图案的PDMS薄膜（7），栅线（8）的宽度随着栅线（8）被拉长而变窄，即光栅图案的周期变小，然后将拉伸后的PDMS薄膜（9）固定在一片平整的基底（4）上；
d、将拉伸后的PDMS薄膜（9）上的周期变小的光栅图案转移到PMMA薄膜（10）上，成为下一步骤的光栅母模版（5）；
e、依次重复步骤b、c、d若干次，直至制作成纳米级的基于PMMA薄膜的光栅母模版（5）；
f、将步骤e中的光栅母模版（5）的光栅图案转移到PDMS薄膜上，制作具有纳米级光栅图案的PDMS薄膜；
g、以步骤f中具有纳米级光栅图案的PDMS薄膜为母模版，制作其它多种材料的纳米级光栅。
2.根据权利要求1所述的一种基于PDMS的纳米级光栅制作方法，其特征在于：步骤b中，所述的PDMS是由美国Dow Corning Corp生产的SYLGARD 184型硅橡胶，它是由液体组分组成的双组分套件产品，包括预聚物与固化剂；使用时，按照预聚物：固化剂为20:1的比例配制好PDMS液体，然后将其倾倒在带有光栅结构的光栅母模版（5）的表面，在100℃的烘盘上加热固化1小时，待PDMS液体转化为固体后，将PDMS薄膜（6）从光栅母模版（5）上剥离下来，此时光栅母模版（5）上的光栅图案已经转移到PDMS薄膜（6）上，即成为带有光栅图案的PDMS薄膜（7）；步骤c中所述拉伸后的PDMS薄膜（9）上的光栅的宽度变为原来的60％。
3.根据权利要求1或2所述的一种基于PDMS的纳米级光栅制作方法，其特征在于：步骤a中，所述光栅母模版（5）通过紫外光刻技术或者电子束光刻技术制作而成。
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