[发明专利]一种高精度BGA植球装置有效
申请号: | 201210377135.0 | 申请日: | 2012-10-08 |
公开(公告)号: | CN102915934A | 公开(公告)日: | 2013-02-06 |
发明(设计)人: | 王涛;向圆;张乐银;徐春叶;明源;李丙旺 | 申请(专利权)人: | 华东光电集成器件研究所 |
主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60 |
代理公司: | 安徽省蚌埠博源专利商标事务所 34113 | 代理人: | 杨晋弘 |
地址: | 233042 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 高精度 bga 装置 | ||
技术领域
本发明涉及一种高精度BGA植球装置。
背景技术
随着芯片集成度不断提高,I/O引脚数急剧增加,功耗也随之增大,对集成电路封装的要求也更加严格。为了满足发展的需要,BGA封装被应用于生产。通常情况下,BGA封装过程中,采用手工通过毛刷或其他工具涂敷助焊剂或焊膏,但助焊剂或焊膏涂敷厚度不可控制,一致性差,不需要涂敷的焊盘中间位置容易被污染,同时会浪费较多的助焊剂或焊膏,所以手工涂敷助焊剂或焊膏效率较低。植球模板的经常拆分会引起网板变形,使得网板下表面与封装基板上表面间隙精度不可控制,导致封装基板表面的助焊剂或焊膏接触到模板下表面,不仅会污染模板,同时造成模板脱模时带离封装基板,导致植球失败。另外,植球网板脱模时需要控制垂直移动,手工控制垂直度较差,容易使放置好的焊球偏位,焊球熔化过程中(回流焊或其他方式)容易发生短路及偏位等缺陷。
在BGA植球过程中,解决封装基板精确定位问题是至关重要的,特别是在当今电子技术高速发展情况下,器件向高集成度、小型化方向发展,BGA的PAD间距越来越小,使用一般的机械定位方式一方面会导致定位不精确或偏移而导致PAD之间互联,另一方面可能对器件造成损伤。在专利高精度自动植球设备及使用该设备的BGA焊球植入方法200910232573.6中公布了利用真空对IC器件进行吸附固定,但是对器件尺寸有限制,而且植球模板拆分频率高;在专利BGA器件漏印工装及印制板BGA器件的更新焊接方法200910303843.8中公布了采用顶杆固定器件方式,容易造成器件损坏或者网板变形。另外,一般植球工装只是针对器件X、Y方向进行限位。本专利有以下特征:一是通过相应的机械结构可以完成封装基板X、Y、Z、θ四个方向的精确定位;二是采用真空吸附方式对器件进行固定,避免因固定造成的损伤;三是植球完成后,通过机械结构使器件与模板分离,模板固定不动,这样模板拆分频率低,减小模板变形。
发明内容
本发明的目的就是为了解决现有手工BGA植球过程中存在的模板定位精度差、效率低、可靠性差、浪费大的缺陷,提供的一种高精度BGA植球装置。
本发明的目的通过以下技术方案实现的:
一种高精度BGA植球装置,其特征在于包括:
a、一个保护盒,保护盒的上端为开口端、后面铰接活动门;
b、保护盒内设有三维机械调节装置,三维机械调节装置中的各调节螺杆分别穿过保护盒正面和侧面,三维调节装置顶部连接有吸盘,吸盘通过软管与负压源连接;所述的吸盘为中空结构、其表面均布设有吸附孔。
c、模板框,模板框中设有网版,模板框四角分别设有螺钉与保护盒的上端对应连接。
在上述技术方案的基础上,还有以下进一步的技术方案:
模板框中设有漏球孔,漏球孔与设置在模板框下面的收集槽连接配合。
所述的三维机械调节装置,包括:
底座及其上设置的纵向移动版,纵向移动版与底座之间设有纵向螺杆及配合的纵向螺母;
纵向移动版上设置横向移动版,纵向移动版与横向移动版之间设有横向螺杆及其配合的螺母;
横向移动版上设有套筒,套筒中设有移动配合的升降螺杆,升降螺杆上连接一个涡轮螺母,涡轮螺母的外圆涡轮部分与垂直螺杆连接配合;
升降螺杆的上端滑动连接一个角度涡轮,角度调节螺杆与角度涡轮连接配合,角度涡轮上端连接吸盘。
本发明具有如下优点:使用时先进行粗略定位,再通过真空吸附,在机械结构的协助下完成不同结构尺寸器件的精确定位;这样模板拆分频率低,减小模板变形,延长使用寿命,减少成本。植球过程中,通过真空吸附固定器件,减少器件工艺过程中的损伤。
附图说明
图1是本发明的三维分解示意图;
图2是本发明的三维机械调节装置安装于保护盒中的示意图;
图3是本发明安装模板框的示意图;
图4是本发明的模板框示意图;
图5是本发明的三维机械调节装置示意图。
具体实施方式
本发明的总体结构如图1所示,它包括:
a、一个保护盒1,保护盒1的上端为开口端、后面铰接活动门1b,参见图2、图3;
b、保护盒1内设有三维机械调节装置,三维机械调节装置中的各调节螺杆分别穿过保护盒1正面和侧面(如图2所示),三维调节装置顶部连接有吸盘6,吸盘6通过软管12与负压源连接;所述的吸盘为中空结构、其表面均布设有吸附孔(参见图5);
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造