[发明专利]一种环形磁控溅射装置有效
| 申请号： | 201210375207.8 | 申请日： | 2012-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN102864426A | 公开（公告）日： | 2013-01-09 |
| 发明（设计）人： | 刘星元;林杰;李会斌 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 长春菁华专利商标代理事务所 22210 | 代理人： | 南小平 |
| 地址： | 130033 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 环形 磁控溅射 装置 | ||
1.一种环形磁控溅射装置，包括外充气管（1）、靶材（2）、靶基（3）、外磁钢（6）、内磁钢（10）、极靴（9）及外屏蔽板（7），其特征在于，所述内磁钢（10）中间开有矩形孔进而形成环状矩形磁钢，所述极靴（9）中间开的孔与所述内磁钢（10）中间开的孔的大小相同；所述极靴（9）的长度及宽度与所述外磁钢（6）的长度及宽度相同；所述内磁钢（10）和所述外磁钢（6）置于所述极靴（9）上，所述外磁钢（6）外边缘与所述极靴（9）外边缘对齐，所述内磁钢（10）中间开的孔的内边缘与所述极靴（9）中间开的孔的内边缘对齐；所述外磁钢（6）及所述内磁钢（10）与所述极靴（9）形成一个环形的磁场。
2.根据权利要求1所述的环形磁控溅射装置，其特征在于，所述环形磁控溅射装置还包括内充气管（4）、压靶材条（5）、靶体（8）以及内屏蔽板（11）；所述内磁钢（10）、外磁钢（6）、极靴（9）组装在靶体（8）上，所述靶体（8）上面设有靶基（3），所述靶基（3）上设有内外两圈压靶材条（5），所述压靶材条（5）位于靶基（3）上，整个溅射装置外部设有外屏蔽板（7），所述内屏蔽板（11）上部、内磁钢（10）之外设有内充气管（4）。
3.根据权利要求2所述的磁控溅射装置，其特征在于，所述外磁钢（6）、极靴（9）、靶体（8）及靶基（3）均为矩形的环。
4.根据权利要求2所述的磁控溅射装置，其特征在于，所述靶体（8）和靶基（3）组成的整体为密封体。
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