[发明专利]缬沙坦中杂质VLSI-M的控制方法无效
| 申请号: | 201210374924.9 | 申请日: | 2012-09-29 |
| 公开(公告)号: | CN102875485A | 公开(公告)日: | 2013-01-16 |
| 发明(设计)人: | 邹江;丁超;陆骁骏;杨琰;王文峰 | 申请(专利权)人: | 华润赛科药业有限责任公司 |
| 主分类号: | C07D257/04 | 分类号: | C07D257/04 |
| 代理公司: | 北京纽乐康知识产权代理事务所 11210 | 代理人: | 覃莉 |
| 地址: | 100124 北京市朝阳区百*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 缬沙坦中 杂质 vlsi 控制 方法 | ||
技术领域
本发明涉及药物技术领域,尤其涉及一种缬沙坦中杂质VLSI-M的控制方法。
背景技术
缬沙坦(valsartan,化学式见式Ⅰ),化学名:N-(1-氧戊基)-N-[4- [2-(1H-四唑-5-基) 苯基]苄基]-L-缬氨酸,是一种血管紧张素Ⅱ的1型(AT1)受体拮抗剂,具有全新的降压机制,降压平稳、疗效强、作用时间长、患者耐受性好。
关于缬沙坦的文献相当丰富,主要集中在合成路线和晶型上,例如关于缬沙坦合成路线的专利有US5399578、US7199144、WO2006067216、WO2008007391、WO2004026847、CN00115355等;关于缬沙坦晶型的专利有US7105557、WO2003089417、WO2004087681、US20060270723等;在缬沙坦的杂质控制方面,中国专利公开CN101367772对有关物质做出了如下的限定:VLSI-A不超过1.0%;VLSI-B和VLSI-D分别不得超过0.2%和0.1%,其它单个未知杂质不得超过0.1%,总杂质(不包括VLSI-A)不超过0.3%,符合美国药典的要求;中国专利公开CN200910085197.2对缬沙坦杂质E进行了研究,中国专利公开CN200910242972.0对缬沙坦杂质F进行了研究。
在缬沙坦氨氯地平复方制剂的研究中,对于缬沙坦原料药的质量提出了更高的要求,单个杂质要求小于0.02%,甚至小于0.015%。因此,非常有必要对缬沙坦原料药中的未知杂质进行研究,找到产生的原因和控制方法。
通过对缬沙坦精制方法的研究,发现RRT值0.5的杂质通过重结晶很难有效去除,通过液质联用分析,该杂质的分子量为[M+1]+=380。初步判断为缬沙坦甲酰化杂质,化学式如下式:
定向合成VLSI-M后,经液相定位,证实该杂质确是VLSI-M。
发明内容
本发明的目的是提供一种缬沙坦中杂质VLSI-M的控制方法,通过对缬沙坦产品中VLSI-M的研究,确定缬沙坦中VLSI-M的性质,通过对缬沙坦合成中环合溶剂DMF的限定,来控制杂质的含量,制备出高纯度的缬沙坦产品。
实现本发明目的的技术方案如下:
一种缬沙坦中杂质VLSI-M的控制方法,其中所述缬沙坦的合成路线如下:
控制VLSI-M的含量不超过终产物重量的0.015%是本合成的目的,为此本发明对环合溶剂DMF进行限定,使用甲酸的含量不大于200ppm的DMF作为环合溶剂,根据上述合成路线进行合成,得到缬沙坦,其杂质VLSI-M的重量含量不超过0.015%。
进一步的,甲酸的重量含量不大于200ppm的DMF是通过以下方法得到:取工业级DMF,测定其甲酸含量;甲酸含量大于200ppm时,精馏,得到甲酸含量不大于200ppm的DMF。
本发明有益效果:本发明使用DMF为环合溶剂来合成缬沙坦,DMF中甲酸含量的不同即杂质VLSI-M生产的含量也不同,本发明根据控制环合溶剂DMF中甲酸的含量,来控制杂质的含量,方法简单,在保证生产率的情况下,减少杂质的产生,达到了对杂质含量做到有效控制。
附图说明:
下面根据附图对本发明作进一步详细说明。
图1是缬沙坦的液相图;
图2是VLSI-M的液相图;
图3是缬沙坦和VLSI-M混合进样的液相图。
具体实施方式
以下通过实施例进一步说明本发明,但不作为本发明的限制
实例1、缬沙坦的制备
在1000ml三口烧瓶中加入118g N-[(2’-氰基联苯-4-基)甲基]-(L)-缬氨酸甲酯和400ml甲苯、44g碳酸氢钠,搅拌,冷却至0℃。滴加52ml戊酰氯,保持温度小于10℃;加毕,室温搅拌10小时;TLC和HPLC表明反应完成;加入100ml×2水,搅拌0.5小时,分走水相;甲苯相用50ml 1N盐酸、50ml 5%碳酸氢钠和50ml×2盐水洗,用40g无水硫酸钠干燥;过滤,滤液旋蒸得到浅黄色油状物,即为N-[(2’-氰基联苯-4-基)甲基]-N-戊酰基-(L)-缬氨酸甲酯。
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