[发明专利]以石墨烯键长为基准的超精密制造装备精度比对及精度补偿方法

权利要求书

1.一种以石墨烯键长为基准的超精密制造装备精度比对及精度补偿方法，其特征在于，包括如下步骤：

1)将待加工样品与石墨烯基准样品分别装夹在制造装备样品台上和石墨烯基准样品承载台上；

2)将制造装备加工时的运动元部件与石墨烯基准样品台进行超精密联动控制连接，设置好运动时两者之间的位移定量函数关系；

3)在制造装备加工运动时，通过扫描经过石墨烯检测窗口的石墨烯键长数量来表征石墨烯基准样品承载台的运动长度，并根据步骤2)中的所述定量函数关系映射制造装备样品台实际运动长度；

4)将该实际运动长度反馈至制造装备运动元部件的运动控制系统，与制造装备运动元部件的预期运动长度相比对，进行制造装备运动元部件的运动长度闭环控制，对亚纳米级精度的误差补偿。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述步骤2)中的定量函数关系为亚纳米量级定量函数关系。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述步骤2)中石墨烯键长数量的检测方式为聚焦电子束成像或探针扫描方式。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述的超精密制造装备包括纳米测量机、超精密机床或聚焦高能束制造系统。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于：所述聚焦高能束制造系统为：电子束加工系统、聚焦粒子束加工系统或激光加工系统。