[发明专利]一种多晶铸锭炉及用其生长多晶硅锭的方法有效

专利信息
申请号: 201210369883.4 申请日: 2012-09-28
公开(公告)号: CN102877127A 公开(公告)日: 2013-01-16
发明(设计)人: 黎志欣;郭大伟;王军;王楠 申请(专利权)人: 北京京运通科技股份有限公司
主分类号: C30B28/06 分类号: C30B28/06;C30B29/06
代理公司: 北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11369 代理人: 史霞
地址: 100176 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 多晶 铸锭 生长 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及多晶硅锭生产技术领域,特别涉及一种多晶铸锭炉及用其生长多晶硅锭的方法。

背景技术

光伏发电直接利用太阳光照的能量发电,是一种重要的可再生能源。多晶硅铸锭炉是光伏工业的主要生产设备之一。从目前太阳能电池市场环境看,提高太阳能电池的转换效率是太阳能电池行业的主流方向。虽然单晶硅的转化效率远远大于多晶硅,但是单晶硅的成本较高。因此,为了提高太阳能电池的转化效率,太阳能企业不断对多晶铸锭炉系统和多晶硅锭的铸造方法做出改进。一定数量的太阳能级多晶硅料装入石英坩埚之后被放置在多晶硅铸锭炉炉膛的中央,在真空状态和保护气氛之下经过加热、熔化、定向长晶、退火、冷却等过程生长成为定向凝固多晶硅锭。此种硅锭经检测、切割等步骤成为多晶硅片,多晶硅片即可直接用于生产太阳能电池。

现有的铸锭炉最大为G6炉型,炉膛内径为1850mm,所需压缩空气压力在0.4MPa左右,氩气压力在0.3MPa,所需冷却水压差在0.2MPa,水流量约180L/min。G6炉型配有G6热场,只能容纳G6坩埚,装料量在660-800kg。运行周期约80小时,所铸硅锭通过开方机开方,可以开成6*6=36块156*156mm的子锭。

发明内容

有鉴于此,本发明提供了一种用多晶铸锭炉生长多晶硅锭的方法,能够生产G7多晶硅锭,铸锭大小1152*1152*(200-500)mm,通过开方机开方可以开成7*7=49块子锭,增加了多晶的成晶率,提高了生产效率,降低了太阳能电池的生产成本。

为了达到上述目的,本发明提供了如下技术方案:一种用多晶铸锭炉生长多晶硅锭的方法,其特征在于,包括:

1)在坩埚内铺设硅料,将坩埚装入多晶铸锭炉内;

2)将所述多晶铸锭炉抽真空、检漏,检漏通过后,开始加热;

3)达到规定温度1175-1560℃之间后,进入熔化过程,同时向所述多晶铸锭炉充入氩气,所需氩气压力为0.1-0.8MPa;

4)当硅料完全熔化后,进入长晶过程,长晶温度控制在1400-1480℃之间,并按设定值来提升隔热装置,以此控制长晶速度为0-45mm/h之间,期间通过所述炉体的水冷系统对所述容器进行冷却,所需冷却水压差为0.2-0.3MPa,水流量为140-220L/min;

5)当硅液完全凝固至固体后,进入退火过程,以降低硅锭内部应力,完成退火过程后,进入冷却过程,使硅锭冷却,降温至400℃以内,冷却结束后,硅锭出炉。

优选的是,所述用多晶铸锭炉生长多晶硅锭的方法中,在多晶硅锭的生长过程中所需的压缩空气压力为0.1-0.7MPa。

优选的是,所述用多晶铸锭炉生长多晶硅锭的方法中,所述步骤2)中所需的供电电压为360-480V,通过变压器变压至24-28V,给加热装置进行供电。

优选的是,所述用多晶铸锭炉生长多晶硅锭的方法中,所述步骤4)中冷却水压差为0.25MPa,水流量为180L/min。

基于上述提供的用多晶铸锭炉生长多晶硅锭的方法,本发明还提供了一种生长多晶硅锭的多晶铸锭炉,所述的生长多晶硅锭的多晶铸锭炉的隔热装置的侧隔热层与顶隔热层厚度在40-120mm之间,侧隔热层形成方形的保温圈,保温圈大小在1230-1650mm之间,高度在1350-1650mm之间。

优选的是,所述的生长多晶硅锭的多晶铸锭炉的坩埚的横截面为正方形,边长为1100-1300mm,高为420-600mm。

优选的是,所述的多晶铸锭炉的炉膛内径为2000-2500mm。

本发明所提供的技术方案中,在多晶硅锭生产过程中氩气系统、水冷系统和压缩空气系统控制参数的改进以及热场系统中隔热层尺寸的调整,可以有效地控制定向长晶,提高多晶硅锭的平均质量。生长多晶硅锭使用的坩埚横截面为正方形,边长为1192*1192mm,高约480-600mm,得到的铸锭大小1152*1152*(200-500)mm,将此多晶硅锭经切方处理后,可得到7*7=49块156*156mm的G7多晶硅块。采用本发明所述的方法提高生产效率约36%,生产成本极大的降低,使太阳能发电的成本进一步降低。

附图说明

图1为本发明所述的用多晶铸锭炉生长多晶硅锭的方法流程示意图。

具体实施方式

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要的附图作简单的介绍。

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