[发明专利]具有周转齿轮系统的磁性组件及其使用方法

权利要求书

1.一种磁性装置，包括：

周转齿轮系统，所述周转齿轮系统包括：

被配置成旋转的中心齿轮；

至少一个外围齿轮，连接至所述中心齿轮并且被配置成相对于所述中心齿轮旋转和平移；和

环，环绕所述至少一个外围齿轮并且与所述至少一个外围齿轮连接；以及

磁性组件，与所述周转齿轮系统连接，所述磁性组件包括：

与所述至少一个外围齿轮连接的支撑件，所述支撑件的旋转轴与连接所述支撑件的所述至少一个外围齿轮的旋转轴同轴；和

多个磁体，附接至所述支撑件的与所述外围齿轮相对的面上，所述多个磁体包括具有离所述支撑件最远的第一极的至少一个第一磁体以及具有离所述支撑件最远的第二极的至少一个第二磁体。

2.根据权利要求1所述的磁性装置，其中，所述中心齿轮的旋转轴与所述支撑件的旋转轴间隔开大约20mm和大约40mm之间的距离。

3.一种溅射组件，包括：

溅射室，被配置成接收气体；

磁性装置，位于所述溅射室一端，所述磁性装置包括：

周转齿轮系统，所述周转齿轮系统包括：

被配置成旋转的中心齿轮；

至少一个外围齿轮，连接至所述中心齿轮并且被配置成相对于所述中心齿轮旋转和平移；和

环，环绕所述至少一个外围齿轮并且与所述至少一个外围齿轮连接；以及

磁性组件，与所述周转齿轮系统连接，所述磁性组件包括：

与所述至少一个外围齿轮连接的支撑件，所述支撑件的旋转轴与连接所述支撑件的所述至少一个外围齿轮的旋转轴同轴；和

多个磁体，附接至所述支撑件的与所述外围齿轮相对的面上，所述多个磁体包括具有离所述支撑件最远的第一极的至少一个第一磁体以及具有离所述支撑件最远的第二极的至少一个第二磁体；

晶圆支撑件，位于所述溅射室的远离所述磁性装置的端部；以及

靶，设置所述溅射室中并且位于所述晶圆支撑件和所述磁性装置之间。

4.根据权利要求3所述的溅射组件，其中，所述中心齿轮的旋转轴与所述支撑件的旋转轴间隔开大约20mm和大约40mm之间的距离。

5.根据权利要求3所述的溅射组件，其中，所述气体包括氩气、氧气或者氮气。

6.根据权利要求3所述的溅射组件，其中，所述靶包括铝、铜、钛、钽或者它们的合金。

7.一种使用溅射室的方法，包括：

将气体引入所述溅射室；

点燃所述气体以形成等离子体；

使用所述等离子体溅射靶的一部分；

将所述靶的溅射出的部分沉积在晶圆上；以及

使用磁性装置控制所述靶周围的磁场，所述磁性装置包括：

周转齿轮系统，所述周转齿轮系统包括：

被配置成旋转的中心齿轮；

至少一个外围齿轮，连接至所述中心齿轮并且被配置成相对于所述中心齿轮旋转和平移；和

环，环绕所述至少一个外围齿轮并且与所述至少一个外围齿轮连接；以及

磁性组件，与所述周转齿轮系统连接，所述磁性组件包括：

与所述至少一个外围齿轮连接的支撑件，所述支撑件的旋转轴与连接所述支撑件的所述至少一个外围齿轮的旋转轴同轴；和

多个磁体，附接至所述支撑件的与所述外围齿轮相对的面上，所述多个磁体包括具有离所述支撑件最远的第一极的至少一个第

一磁体以及具有离所述支撑件最远的第二极的至少一个第二磁体。

8.根据权利要求7所述的方法，其中，控制所述靶周围的所述磁场进一步包括：相对于所述支撑件移动所述多个磁体中的至少一个。

9.根据权利要求7所述的方法，其中，点燃所述气体包括：对位于所述磁性装置和所述靶之间的上电极施加直流电压。

10.根据权利要求7所述的方法，其中，控制所述磁场包括：以大约80转/每分钟(rpm)和110rpm之间的速度旋转所述中心齿轮。