[发明专利]透明导电膜卷绕镀膜装置及其使用方法

权利要求书

1.一种透明导电膜卷绕镀膜装置，包括依次相连的放卷室、镀膜室、收卷室以及真空获得系统，所述放卷室将柔性基材运送到所述镀膜室内镀膜，形成透明导电膜，所述收卷室用于接收所述透明导电膜，所述真空获得系统安装于所述镀膜室，用于获得镀膜所需的真空状态，其特征在于，所述透明导电膜卷绕镀膜装置还包括控制系统，所述控制系统包括：

气体分析仪，设于所述镀膜室内，用于分析所述镀膜室内的气体成分和含量；

真空计，设于所述镀膜室内，用于测量所述镀膜室内的气压；

气体流量计，设于所述镀膜室的进气管道上，用于控制所述镀膜室的进气量；

张力控制系统，设于放卷室、镀膜室及收卷室内，用于控制柔性基材的平稳运行；及

计算机，与所述在线气体分析仪、真空计及气体流量计相连。

2.根据权利要求1所述的透明导电膜卷绕镀膜装置，其特征在于，所述控制系统还包括设于所述镀膜室内并与所述计算机相连的在线电阻仪，用于实时检测透明导电膜的电阻值。

3.根据权利要求1所述的透明导电膜卷绕镀膜装置，其特征在于，所述控制系统还包括设于所述镀膜室内并与所述计算机相连的在线透过率测试仪，用于实时检测透明导电膜的透过率。

4.一种如权利要求1所述的透明导电膜卷绕镀膜装置的使用方法，其特征在于，包括如下步骤：

基材从所述放卷室进入所述镀膜室进行镀膜；

根据所述在线气体分析仪和所述真空计的测量结果确定所述镀膜室内杂质气体的含量；

当所述计算机判断所述杂质气体的含量增加时，所述气体流量计减少所述镀膜室工艺气体的进气量，当所述计算机判断所述杂质气体的含量减少时，所述气体流量计增加所述镀膜室工艺气体的进气量；及

将镀膜后形成的透明导电膜送入所述收卷室。