[发明专利]有机发光显示装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201210363886.7 申请日: 2012-09-26
公开(公告)号: CN103035848A 公开(公告)日: 2013-04-10
发明(设计)人: 金俊中;方熙皙 申请(专利权)人: 乐金显示有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L27/32;H01L51/56
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 吕俊刚;孙海龙
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 有机 发光 显示装置 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种有机发光显示装置,所述有机发光显示装置包括形成在基板上的多个子像素,

其中,具有发光区域和非发光区域的各子像素包括:

驱动薄膜晶体管,所述驱动薄膜晶体管在所述非发光区域处的所述基板上;

保护层,所述保护层在包括所述驱动薄膜晶体管的所述基板上;

滤色器,所述滤色器在所述发光区域处的所述保护层上;

平坦化层,所述平坦化层在包括所述滤色器的所述保护层上;

第一漏极接触孔,所述第一漏极接触孔在所述保护层和所述平坦化层中,露出所述驱动薄膜晶体管的漏极;

光补偿层,所述光补偿层在所述平坦化层上,所述光补偿层具有露出所述第一漏极接触孔的第二漏极接触孔以及露出所述平坦化层的至少一个虚设孔;以及

有机发光元件,所述有机发光元件在所述光补偿层上,所述有机发光元件通过所述第一漏极接触孔和所述第二漏极接触孔与所述漏极相接触,并且所述有机发光元件包括第一电极、有机发光层和第二电极。

2.根据权利要求1所述的装置,其中,所述至少一个虚设孔具有与所述第二漏极接触孔的面积相同的总面积。

3.根据权利要求1所述的装置,其中,所述光补偿层是诸如SiNx和SiO2的硅族材料的无机膜。

4.根据权利要求1所述的装置,其中,所述多个子像素具有红色子像素、绿色子像素、蓝色子像素和白色子像素。

5.根据权利要求1所述的装置,其中,所述至少一个虚设孔形成在所述非发光区域处。

6.一种制造具有多个子像素的有机发光显示装置的方法,各子像素具有发光区域和非发光区域,所述方法包括以下步骤:

在非发光区域处的基板上形成驱动薄膜晶体管;

在包括所述驱动薄膜晶体管的所述基板上形成保护层;

在所述保护层上形成滤色器;

在包括所述滤色器的所述保护层上形成平坦化层;

选择性地去除所述保护层和所述光补偿层,以形成将所述驱动薄膜晶体管的漏极露出的第一漏极接触孔;

在所述平坦化层上形成光补偿层,以具有露出所述第一漏极接触孔的第二漏极接触孔以及露出所述平坦化层的至少一个虚设孔;以及

在所述光补偿层上形成有机发光元件,以通过所述第一漏极接触孔和所述第二漏极接触孔与所述漏极相接触。

7.根据权利要求6所述的方法,其中,通过干法刻蚀形成所述第二漏极接触孔和所述至少一个虚设孔。

8.根据权利要求6所述的方法,其中,所述至少一个虚设孔具有与所述第二漏极接触孔的面积相同的总面积。

9.根据权利要求6所述的方法,其中,所述光补偿层是诸如SiNx和SiO2的硅族材料的无机膜。

10.根据权利要求6所述的方法,其中,所述多个子像素具有红色子像素、绿色子像素、蓝色子像素和白色子像素。

11.根据权利要求6所述的方法,其中,所述至少一个虚设孔形成在所述非发光区域处。

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