[发明专利]光学元件及其制造方法

权利要求书

1.光学元件的制造方法，包括：

在透明基材上设置第一材料，该第一材料包括含有透明导电材料的细颗粒的第一能量固化性树脂的前体；

通过光照射使该第一材料固化；和

对该固化的第一材料进行热处理，

其中通过光照射(后光照射)再次对该通过热处理进行了处理的固化的第一材料进行处理。

2.根据权利要求1的光学元件的制造方法，还包括，通过光照射使该第一材料固化后：

在该固化的第一材料上设置第二材料，该第二材料包括第二能量固化性树脂的前体；

通过光照射使该第二材料固化；和

对该固化的第二材料进行热处理。

3.光学元件的制造方法，包括：

在透明基材上设置第二材料，该第二材料包括第二能量固化性树脂的前体；

通过光照射使该第二材料固化；

在该固化的第二材料上设置第一材料，该第一材料包括含有透明导电材料的细颗粒的第一能量固化性树脂的前体；

通过光照射使该第一材料固化；和

对该固化的第一和第二材料进行热处理，

其中通过光照射(后光照射)再次对均通过热处理进行了处理的该固化的第一和第二材料进行处理。

4.根据权利要求1的光学元件的制造方法，其中该后光照射包括具有300-400nm的波长的光，并且300-400nm的波长的光的照射量为12-150J。

5.根据权利要求1的光学元件的制造方法，其中该后光照射包括具有300-400nm的波长的光，具有300-350nm的波长的光与具有300-400nm的波长的全部光之比为0％-10％，并且300-400nm的波长的光的照射量为12-150J。

6.光学元件，包括：

第一透明基材上的含有透明导电材料的细颗粒的第一部件；和

该第一部件上的第二透明基材，

其中该第一部件在与空气接触的部分设置有抑制氧的透过并且具有2.0×10^-11P/cm³·cm·(cm²·s·cmHg)^-1以下的由高真空压差法测定的氧透过率的层。

7.根据权利要求6的光学元件，在该含有透明导电材料的细颗粒的第一部件和该第二透明基材之间还包括第二部件。

8.根据权利要求7的光学元件，其中该第二部件包括与抑制氧的透过的层的材料相同的材料。

9.根据权利要求7的光学元件，其中该第二部件具有比第一部件高的1.4×10^-3S/cm³·(cm²·cmHg)^-1以上的氧溶解度。

10.根据权利要求7的光学元件，其中该第二部件具有2.0×10^-11P/cm³·cm·(cm²·s·cmHg)^-1以下的由高真空压差法测定的氧透过率。

11.根据权利要求6的光学元件，其中该透明导电材料包括氧化铟锡、锑掺杂的氧化锡、和氧化锌中的一种。

12.根据权利要求6的光学元件，其中该透明导电材料的细颗粒具有1-100nm的数均颗粒直径。

13.根据权利要求6的光学元件，其中该第一部件的透明导电材料的细颗粒的含量为1-29体积％，相对于该第一部件的体积。

14.根据权利要求6的光学元件，其中该第一部件包括丙烯酸系树脂、乙烯基树脂和环氧树脂中的至少一种。

15.根据权利要求7的光学元件，其中用nd1表示该第一部件的折射率，用v1表示该第一部件的阿贝数，用nd2表示该第二部件的折射率，并且用v2表示该第二部件的阿贝数时，nd1＜nd2和v1＜v2成立。

16.根据权利要求7的光学元件，其中该光学元件是多层衍射光学元件。