[发明专利]液晶介质混合物及使用其的液晶显示器

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示技术，尤其涉及一种液晶介质混合物及使用其的液晶显示器。 

背景技术

在LCD行业中，近年来发展起来的PSVA(Polymer stabilized vertical alignment,聚合物稳定垂直对齐)技术相对传统的TN/STN(Twisted nematic/Super twisted nematic，扭曲向列型/超扭曲向列型)技术有可视角宽、对比高、响应快等诸多优点，而相对其他的VA技术，如MVA(Multi-domain vertical alignment，多象限垂直配向型)、PVA(Patterned vertical alignment，垂直取向构型)技术，在穿透率、制程简便性上也具有相当的优势，所以PSVA已成为现今TFT-LCD(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，薄膜晶体管液晶显示器)行业的一大主流技术。 

PSVA的关键制程中：采用负型液晶材料，未加电场时液晶分子垂直于基板表面排列，液晶材料中添加了一定量在紫外光照射下可发生聚合反应的单体，简称RM。在基板上滴加液晶进行组合之后，对面板施加合适频率、波形、电压的信号，使液晶分子沿预先设定的方向倾倒，同时采用紫外光照射面板，使RM聚合形成高分子沉积于面板内的两个基板表面，此即为聚合物bump，可以使液晶分子在未加电压的情况下具有一定的预倾角，由此来加快液晶分子的响应速度。相对摩擦(Rubbing)只能单一方向配向，这个方法的好处是可以在面板内实现不同区域多角度配向(产生预倾角)。 

根据美国专利US7169449等的揭示，使用在PSVA技术中的RM(Reactive Mesogen，反应性介晶体)所含的光反应性基团通常为甲基丙烯酸酯基、丙烯酸酯基、乙烯基、乙烯氧基、环氧基等，其中最常用的是甲基丙烯酸酯基。但是直接使用UV(紫外)光照射使这些RM反应存在一些问题：能使含上述此类基团的RM发生光聚合反应的主要波长范围为200-300nm，波长超过300nm的紫外光虽然也可使RM发生反应，但效率很低，速度非常慢，不具备良好的量产 性，因此必须采用波长在300nm以下的光源来照射面板，使RM发生反应。然而使用300nm以下的光源会给面板的制作带来很多缺点和难度：首先，300nm以下的紫外光具有较高的能量，会使配向层材料聚酰亚胺(Polyimide)以及液晶分子发生降价破坏，造成面板的VHR(Voltage holding ratio电压保持率)降低、Image sticking(影响残留)变严重、RA(Reliability analysis可靠性分析)结果变差等；其次，用来制作TFT-LCD基板的玻璃通常对300nm以下的紫外光具有一定的吸收作用，会使光源的照射效率下降；更为致命的是液晶材料本身对300nm以下的紫外光具有强吸收作用，波长在300nm以下的紫外光完全不能穿过液晶材料，也就是说来自光源的绝大部分紫外光被液晶材料吸收(起破坏作用)，只有极少部分被RM吸收发生聚合反应，这部分发生在入光侧极浅的位置，这又导致入光侧与背光侧RM反应的不均匀性，使面板的配向效果下降。 

发明内容

本发明的所要解决的技术问题在于，提供一种液晶介质混合物其添加有对波长300-360nm的紫外光有较强的吸收作用的敏化剂，通过该敏化剂使可聚合单体反应波长向长波长移动，聚合反应效率高且形成聚合物均匀性好。 

以及提供一种液晶显示器，通过上述液晶介质混合物可采用波长300-360nm的紫外光照射，避开了液晶材料的吸收波段，降低紫外光对液晶材料及配向材料PI(聚酰亚胺)的破坏作用，且提高可聚合单体的聚合反应效率及均匀性，提高面板的配向效果，从而可提高面板的品质和寿命。 

为解决上述技术问题，本发明实施例提供一种液晶介质混合物，其包括组分：液晶材料、可聚合单体及敏化剂，该液晶材料包括在可聚合单体聚合时对聚合反应稳定的烯基化合物，所述敏化剂对波长在300-360nm范围的紫外光具有强吸收性，其为以下分子结构式所示中的一种或多种： 

式I 

式II 

式III 

式IV 

式V 

式VI