[发明专利]一种反射式体全息布拉格光栅紫外曝光的方法

权利要求书

1.一种反射式体全息布拉格光栅紫外曝光的方法，其特征在于包括以下步骤：

（1）将待曝光的光栅材料（3）的表面进行抛光，使光栅入射面（4）和光栅出射面（5）的表面粗糙度达到R_a < 0.01μm，R_a为轮廓算术平均偏差，光栅入射面（4）与光栅出射面（5）平行或者光栅入射面（4）与光栅出射面（5）之间的夹角β为1～20度；

（2）在光栅出射面（5）上镀有紫外光波段反射率大于90%的高反射膜；

（3）用一束平行的紫外光（1）从光栅入射面（4）照射光栅材料（3），紫外光（1）入射至光栅材料（3）内部后到达光栅出射面（5），被光栅出射面（5）上的高反射膜反射，反射的紫外光（2）在光栅材料（3）内部和入射的紫外光（1）进行干涉，从而形成了强度周期性变化的干涉条纹（6）；

（4）干涉条纹（6）周期Λ = λ / (2 n sinα)，其中，λ为入射紫外光的波长，n为光栅材料的折射率，α为光栅材料（3）内入射的紫外光（1）和光栅出射面（5）的夹角；

（5）保持入射的紫外光（1）和光栅材料（3）的位置，使干涉条纹（6）在光栅材料（3）内部保持5分钟至1小时，光栅材料（3）的特性发生了周期性变化，体全息布拉格光栅的周期和干涉条纹的周期一致，至此紫外曝光过程结束。

2.如权利要求1所述的一种反射式体全息布拉格光栅紫外曝光的方法，其特征在于所述的光栅材料（3）为光热折变PTR玻璃或光折变晶体。

3.如权利要求1所述的一种反射式体全息布拉格光栅紫外曝光的方法，其特征在于所述的紫外光波段反射率大于90%的高反射膜为介质膜或金属膜。

4.如权利要求3所述的一种反射式体全息布拉格光栅紫外曝光的方法，其特征在于所述的介质膜的材料为氧化铪，金属膜的材料为铝。