[发明专利]光纤初级预制件、光纤最终预制件和光纤及其制造方法

权利要求书

1.一种使用等离子体化学内部气相沉积工艺来制造光纤初级预制件的方法，其中，

向中空玻璃基管的内部供给掺杂或未掺杂的玻璃形成前体，使等离子体形式的反应区沿着所述中空玻璃基管的长度在中空玻璃基管的位于供给侧附近的换向点和位于排出侧附近的换向点之间往返移动，

中空玻璃基管配置在加热炉内，并且

在所述反应区内创建条件，以使得在所述中空玻璃基管的内部沉积由至少两个单独的玻璃层构成的一个或多个玻璃层封装体，

该方法的特征在于，包括以下步骤：

针对至少一个玻璃层的沉积，根据反应区在中空玻璃基管的纵向上的位置来定义沉积条件，并且在沉积所述玻璃层期间，如此定义的多个沉积条件彼此不同。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，玻璃层封装体内的彼此相邻的玻璃层的沉积条件彼此不同。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，在特定玻璃层封装体内，通过沉积所获得的一个玻璃层的折射率值和/或截面面积不同于通过沉积所获得的另一玻璃层的折射率值和/或截面面积。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其中，由通过沉积所获得的多个单独的玻璃层构成的特定玻璃层封装体的平均折射率值和/或截面面积能够被视为各个单独的玻璃层的折射率值和/或截面面积的组合，并且所述玻璃层封装体内的至少两个这种单独的玻璃层的折射率值和/或截面面积彼此不同。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中，各玻璃层封装体内的各个玻璃层的径向上厚度为0.1微米~10微米，优选为0.5微米~5微米。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其中，玻璃层封装体内的玻璃层的数量为2~100，优选为2~50，更优选为4~30。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的方法，其中，玻璃层封装体内的玻璃层的数量被设置成满足以下条件：

N≤0.1*λ*Qfinald*Qfibre]]>

其中，

N=玻璃层封装体内的玻璃层的数量[-]

λ=光纤所使用的最小波长[μm]

d=初级预制件的玻璃层封装体内的玻璃层的厚度[μm]

Q_final=基于初级预制件所制造的最终预制件的直径[mm]

Q_fibre=光纤的直径[mm]。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的方法，其中，定义沉积条件包括设置从以下的组中选择出的一个或多个工艺参数，该组包括在供给侧计量的附加气体流量、反应区的速度、反应区的等离子体的强度以及反应区的长度。

9.根据权利要求8所述的方法，其中，沉积长度、即基管的在反应区于两个换向点之间移动沿线的长度被细分成单独的沉积区域，针对各沉积区域确定各自的沉积条件。

10.根据权利要求9所述的方法，其中，在沉积工艺期间能够调整针对沉积区域所确定的沉积条件。

11.根据权利要求8至10中任一项所述的方法，其中，在中空玻璃基管的供给侧采用以脉冲高度和脉冲宽度为特征的一个或多个脉冲的形式供给附加气体量。

12.根据权利要求11所述的方法，其中，脉冲宽度为1ms~500ms，优选为1ms~200ms，更优选为5ms~100ms。

13.根据权利要求8至12中任一项所述的方法，其中，附加气体是从如下的组中选择出的，该组包括：包含使折射率增大和/或使折射率减小的一种或多种掺杂物的气体，诸如氧、氩和氦等的气体，或者这些气体中的两种或更多种气体的组合。