[发明专利]一种液晶装置及其制造方法

权利要求书

1.一种液晶装置，包括：密封胶，依次位于所述密封胶上方的保护膜OC、黑矩阵层BM和彩膜基板，以及依次位于所述密封胶下方的保护层PVX和阵列基板；

其特征在于，所述保护膜OC上设置有第一槽或第一通孔，所述密封胶的上部位于所述第一槽或第一通孔的内部；和/或，

所述保护层PVX上设置有第二槽，所述密封胶的下部位于所述第二槽的内部。

2.如权利要求1所述的液晶装置，其特征在于，对应于所述保护膜OC的第一通孔，所述黑矩阵层BM的下部设置有第三槽，所述密封胶的上部同时位于所述第三槽的内部。

3.如权利要求2所述的液晶装置，其特征在于，所述第三槽的深度小于等于所述黑矩阵层BM的厚度；所述第二槽的深度小于所述保护层PVX的厚度。

4.如权利要求1所述的液晶装置，其特征在于，所述液晶装置为窄边框液晶面板。

5.一种液晶装置的制造方法，其特征在于，包括步骤：

A：在彩膜基板上依次沉积黑矩阵层BM和保护膜OC，并在所述保护膜OC上生成第一槽或第一通孔；

B：在阵列基板上沉积保护层PVX，对应所述第一槽或第一通孔的位置在所述保护层PVX上生成第二槽；

C：在所述彩膜基板和阵列基板之间填充密封胶，所述密封胶的上部位于所述第一槽或第一通孔的内部，下部位于所述第二槽的内部；

其中，所述步骤A与步骤B无先后顺序。

6.如权利要求5所述的方法，其特征在于，当在所述保护膜OC上生成第一通孔时，所述步骤A进一步包括步骤：

A100：在彩膜基板上依次沉积黑矩阵层BM和保护膜OC；

A200：在所述保护膜OC上生成第一通孔；

A300：采用狭缝掩膜法或者灰调掩膜法，对应所述第一通孔的位置，在所述黑矩阵层BM生成第三槽。

7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述步骤C中，所述密封胶的上部同时位于所述第三槽的内部。

8.如权利要求5所述的方法，其特征在于，所述步骤B中，使用正性光刻胶在所述保护层PVX上生成第二槽。

9.一种液晶装置的制造方法，其特征在于，包括步骤：

S1：在彩膜基板上依次沉积黑矩阵层BM和保护膜OC，并在所述保护膜OC上生成第一槽或第一通孔；

S2：在阵列基板上沉积保护层PVX；

S3：在所述彩膜基板和阵列基板之间填充密封胶，所述密封胶的上部位于所述第一槽或第一通孔的内部，下部粘接所述保护层PVX；

其中，所述步骤S1与步骤S2无先后顺序。

10.一种液晶装置的制造方法，其特征在于，包括步骤：

P1：在彩膜基板上依次沉积黑矩阵层BM和保护膜OC；

P2：在阵列基板上沉积保护层PVX，在所述保护层PVX上生成第二槽；

P3：在所述彩膜基板和阵列基板之间填充密封胶，所述密封胶的上部粘接所述保护膜OC，下部位于所述第二槽的内部；

其中，所述步骤P1与步骤P2无先后顺序。