[发明专利]填孔和光刻用的抗反射涂层及其制备方法

权利要求书

1.一种吸收组合物，包含

由至少一种无机-基化合物和至少一种吸收化合物形成的吸收材料；

和

至少一种材料改性剂，其中该至少一种材料改性剂包含至少一种氮基基团或取代基。

2.权利要求1的吸收组合物，其中该至少一种氮基基团或取代基包含铵基团、胺基团或其组合。

3.权利要求1的组合物，其中该吸收化合物包含至少一个苯环和选自烷氧基团、羟基基团、胺基团、羧酸基团、取代的甲硅烷基基团或其组合的反应性基团。

4.权利要求1的组合物，其中该吸收化合物包含2,6-二羟蒽醌、9-蒽甲酸、9-蒽甲醇、茜素、醌茜、樱草灵、2-羟基-4-(3-三乙氧基甲硅烷基丙氧基)-二苯基甲酮、玫瑰酸、三乙氧基甲硅烷基丙基-1,8-萘二甲酰亚胺、9-蒽羧基烷基三乙氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、10-菲羧基-甲基三乙氧基硅烷、4-苯基偶氮酚、4-乙氧基苯基偶氮苯-4-羧基-甲基三乙氧基硅烷、4-甲氧基苯基偶氮苯-4-羧基-甲基三乙氧基硅烷或其混合物。

5.权利要求1的组合物，其中该吸收材料包含硅-基化合物。

6.权利要求5的组合物，其中该硅-基化合物、该吸收材料或其组合是聚合物。

7.权利要求1的组合物，其中该至少一种无机基化合物包含甲基硅氧烷、MTEOS、甲基硅倍半氧烷、苯基硅氧烷、苯基硅倍半氧烷、乙烯基三乙氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、四乙氧基硅烷、丙烯酸类硅氧烷聚合物、甲基苯基硅氧烷、甲基苯基硅倍半氧烷、聚碳硅烷、硅酸盐聚合物、硅氮烷聚合物或其混合物。

8.权利要求7的组合物，其中该至少一种无机基化合物还包含氢硅氧烷、氢硅倍半氧烷、有机氢化硅氧烷、硅倍半氧烷-基化合物、硅酸衍生物和有机氢化硅倍半氧烷聚合物；氢硅倍半氧烷与烷氧基氢化硅氧烷的共聚物、羟基氢化硅氧烷、硅酸的衍生物或其混合物。

9.权利要求1的组合物，其中该至少一种材料改性剂包含至少一种胺盐。

10.权利要求1的组合物，其中至少一种材料改性剂包含TMAH、CTAH、CTAA、TBAA、TBAH、APTEOS基化合物、三氟甲磺酸铵、铵nfbs、甲磺酸铵、硝酸铵或其组合。

11.权利要求10的组合物，其中该APTEOS基化合物包含APTEOS三氟甲磺酸盐、APTEOS甲磺酸盐、APTEOS硝酸盐、APTEOS nfbs或其组合。

12.权利要求1的组合物，其中至少一种材料改性剂还包括含烷氧基或羟基的硅烷单体、含乙烯基的硅烷单体、丙烯酸化的硅烷单体或氢化甲硅烷化合物。

13.包含权利要求1的组合物和至少一种溶剂或溶剂混合物的涂料溶液。

14.权利要求13的涂料溶液，其中该至少一种溶剂或溶剂混合物包括至少一种醇、至少一种酮、丙二醇甲醚乙酸酯、至少一种醚、水或其组合。

15.权利要求14的涂料溶液，其中该至少一种醇包含乙醇、异丁醇、正丙氧基丙醇、环戊醇、异戊醇、叔戊醇、1-辛醇、1-甲氧基-2-丙醇或其组合。

16.权利要求13的涂料溶液，其中该溶液是0.5-20wt%吸收组合物。

17.由权利要求1的吸收组合物形成的膜。

18.权利要求17的膜，其中该膜被设计成至少部分地被除掉。

19.权利要求17的膜，其中该膜在365nm或小于365nm的波长吸收光。

20.一种吸收组合物，包含：

由至少一种无机-基化合物和至少一种吸收化合物形成的吸收材料；

和

选自以下的成分：TMAH、CTAH、CTAA、TBAA、TBAH、APTEOS基化合物或其组合。

21.权利要求20的吸收组合物，其中该吸收材料是聚合物。

22.权利要求1的组合物，其中该至少一种吸收化合物包含苯基硅氧烷、苯基硅倍半氧烷、苯基三乙氧基硅烷、甲基苯基硅氧烷、甲基苯基硅倍半氧烷、硅酸盐聚合物、硅氮烷聚合物或其混合物。