[发明专利]一种综合孔径辐射计图像反演方法无效
| 申请号: | 201210346376.9 | 申请日: | 2012-09-18 |
| 公开(公告)号: | CN102914774A | 公开(公告)日: | 2013-02-06 |
| 发明(设计)人: | 陈柯;胡飞;黄全亮;贺锋;郭伟;杨宏;赖利;魏文俊 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
| 主分类号: | G01S13/90 | 分类号: | G01S13/90 |
| 代理公司: | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人: | 朱仁玲 |
| 地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 综合 孔径 辐射计 图像 反演 方法 | ||
1.一种综合孔径辐射计图像反演方法,其特征在于,包括下述步骤:
S1:将目标场景的可见度数据V和辐射计的冲击响应矩阵G分别代入p(V|G,T,β)=N(V|GT,β-1In)和中获得可见度的概率测度初始值β和不同像素点i的概率测度初始值ai;
式中n为所有可见度采样样本数,Ti为不同像素点i的亮温值,T为亮温图像分布;p(T|a)表示亮温图像分布T的先验概率,m为亮温图像的像素总数;a=[a1,…,am]T;In表示n维单位矩阵;
S2:将所述冲击响应矩阵G代入GTGzi=λizi中获得GTG矩阵的特征值λi;
S3:将所述可见度的概率测度初始值β和概率测度初始值a代入p(T|G,a,β)=N(T|u,∑T|V)中得出后验概率的均值u和后验概率的方差∑T|V;
S4:将所述特征值λi、所述可见度的概率测度初始值β、不同像素点i的所述概率测度初始值ai和所述后验概率的均值u代入和得到可见度的概率测度更新值βnew和不同像素点i的概率测度更新值其中,ui为向量u的第i个元素,
S5:判断所述可见度的概率测度更新值βnew和概率测度更新值anew是否收敛;若同时收敛,则进入步骤S6:,若否,则返回步骤S3;
S6:将所述可见度的概率测度更新值βnew、所述概率测度更新值anew、后验概率的均值u和后验概率的方差∑T|V代入公式p(T|G,anew,βnew)=N(T|u,∑T|V)获得亮温图像分布T。
2.如权利要求1所述的反演方法,其特征在于,在步骤S1之前还包括下述步骤:综合孔径辐射计利用天线阵列接收目标场景的微波辐射热信号,进行复相关处理后输出目标场景的可见度数据V和辐射计的冲击响应矩阵G。
3.如权利要求1所述的反演方法,其特征在于,所述
p(V|G,T,β)=N(V|GT,β-1In)和是基于贝叶斯回归估计并结合综合孔径辐射计的辐射成像原理获得的。
4.如权利要求1所述的反演方法,其特征在于,在步骤S5中,通过收敛公式判断所述可见度的概率测度更新值βnew和所述概率测度更新值anew是否收敛,式中dnew表示βnew和anew,当dnew满足收敛公式中的条件时,dnew收敛。
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