[发明专利]用于光刻中的照明光源形状定义的方法、系统和器件

权利要求书

1.-用于确定光刻处理的光刻处理条件的方法（300），所述方法（300）包括：

-获取（310）照明光源和掩模设计的特性，所述掩模设计包括光刻图案，

-执行用于组合优化所述光刻处理的至少所述照明光源特性和所述掩模设计特性的第一优化（320），藉此对于所述第一优化，所述掩模的非矩形子分辨率辅助特征（130）被允许，

-从所述第一优化中确定一组经优化的照明光源特性，

-执行用于优化所述光刻处理的所述掩模设计特性的一个或多个进一步优化（330），藉此对于所述一个或多个进一步优化，所述掩模设计的非矩形子分辨率辅助特征（130）的存在基本被排除，且藉此所述一个或多个进一步优化考虑了所述一组经优化的照明光源特性，和

-从所述一个或多个进一步优化中确定一组基本排除了非矩形子分辨率辅助特征（130）的经优化的掩模设计特性。

2.-如权利要求1所述的方法（300），其特征在于，执行所述一个或多个进一步优化（330）包括：考虑掩模规则验证设置，所述掩模规则验证设置表达：至少在所述一个或多个进一步优化中被允许的最复杂的掩模设计特征欠复杂于在所述第一优化中被允许的最复杂的掩模设计特征。

3.-如权利要求1或2中任一个所述的方法（300），其特征在于，在作为所述掩模设计仅一部分的优化片段上执行所述第一优化。

4.-如根据权利要求1到3中任一个所述的方法（300），其特征在于，执行所述一个或多个优化（330）进一步包括优化所述光刻处理的阈值。

5.-如权利要求4所述的方法，其特征在于所述一个或多个优化包括：

-用于优化所述光刻处理的阈值和所述掩模设计特性的第二优化，藉此对于所述第二优化，基本排除了所述掩模的非矩形子分辨率辅助特征（130）的存在，且藉此所述第二优化考虑了所述一组经优化的照明光源特性，和

-用于优化所述光刻处理的所述掩模设计特性的第三优化，藉此对于所述第三优化，基本排除了所述掩模的非矩形子分辨率辅助特征的存在，且藉此所述第三优化考虑了从所述第一优化中确定的所述一组经优化的照明光源特性和从所述第二优化中确定的经优化的阈值。

6.-如权利要求5所述的方法（300），其特征在于，对于作为所述掩模设计仅一部分的优化片段而应用执行所述第二优化。

7.-如权利要求5或6中任一个所述的方法（300），其特征在于对所述整个掩模设计而应用执行所述第三优化。

8.-如前述权利要求中任一个所述的方法（300），其特征在于，所述光刻处理包括用于图案化所要处理的图案的不同部分的多个图案化步骤。

9.-如前述权利要求中任一个所述的方法（300），其特征在于，对于所述第一优化或所述一个或多个进一步优化中的每一个，基于全抗蚀模型（full resist model）或空气成像模型（aerial image model）来使用光源-掩模优化算法。

10.-用于确定光刻处理的光刻处理条件的系统（700），所述系统包括：

-输入装置（710），用于获取照明光源和掩模设计的特性，所述掩模设计包括光刻图案，

-处理装置（720），被编程为

-执行用于组合优化所述光刻处理的所述照明光源特性和所述掩模设计特性的第一优化，藉此对于所述第一优化，所述掩模的非矩形子分辨率辅助特征（130）被允许，

-从所述第一优化中确定一组经优化的照明光源特性，

-执行用于优化所述光刻处理的所述掩模设计特性的一个或多个进一步优化，藉此对于所述一个或多个进一步优化，所述掩模的非矩形子分辨率辅助特征（130）的存在基本被排除，且藉此所述一个或多个进一步优化考虑了所述一组经优化的照明光源特性，和

-从所述一个或多个进一步优化中确定一组基本排除了非矩形子分辨率辅助特征（130）的经优化的掩模设计特性。

11.-如权利要求10所述的系统（700），所述系统（700）被实现为计算机程序产品，当在处理装置上执行所述计算机程序产品时，所述计算机程序产品用于执行如权利要求1到9中的任意所述的方法之一。