[发明专利]一种对激光镀层进行处理的系统

权利要求书

1.一种对激光镀层进行处理的系统，其特征在于，包括：

第一脉冲激光器(1)和第二脉冲激光器(2)，用于提供进行激光电镀的第一激光脉冲和第二激光脉冲；

第一衰减器(3)和第二衰减器(4)，用于调整第一脉冲激光器(1)和第二脉冲激光器(2)的输出功率，防止损伤镀层处理材料；

第一电子快门(5)和第二电子快门(6)，用于分别控制第一激光脉冲与第二激光脉冲的通断和照射时间；

第一扩束镜(7)和第二扩束镜(8)，用于分别扩展第一脉冲激光器(1)和第二脉冲激光器(2)的激光束直径，减小激光束的发散角；

反射镜(9)和合束器(10)，该反射镜(9)通过合束器(10)将第一激光脉冲与第二激光脉冲汇为一路激光光束；

CCD实时观察系统(11)，用于实时观测待处理样品基底(15)；

光学振镜(12)，用于移动激光光束的位置，控制激光光束的扫描速度；

聚焦物镜(13)和反射镜(14)，聚焦物镜(13)通过反射镜(14)将激光光束聚焦在待处理样品基底(15)的表面；

电解池(16)，用于放置电解液，待处理样品基底(15)放置在电解池16中并与三维移动台(17)连接；

三维移动台(17)，用于放置并调整待处理样品基底(15)的位置；和

延迟控制器(18)，连接于第一脉冲激光器(1)和第二脉冲激光器(2)，控制第一脉冲激光器(1)发射的第一激光脉冲与第二激光脉冲激光器(2)发射的第二脉冲之间具有一个时间延迟。

2.根据权利要求1所述的对激光镀层进行处理的系统，其特征在于，所述第一脉冲激光器(1)和第二脉冲激光器(2)均连接于延迟控制器(18)，第一激光脉冲和第二激光脉冲的脉冲宽度、波长均是相同或不相同，第一激光脉冲和第二激光脉冲的重复频率相同或者成固定的比例关系。

3.根据权利要求2所述的对激光镀层进行处理的系统，其特征在于，该第一激光脉冲和第二激光脉冲的波长范围从100nm-2μm，重复频率从1Hz-100MHz，脉冲宽度从毫秒到飞秒。

4.根据权利要求1所述的对激光镀层进行处理的系统，其特征在于，该第一激光脉冲与第二激光脉冲汇成的激光光束依次经过光学振镜(12)和聚焦物镜(13)，并被反射镜(14)反射至待处理样品基底(15)上。

5.根据权利要求1所述的对激光镀层进行处理的系统，其特征在于，所述延迟控制器(18)通过电调制或光调制的方式控制第一脉冲激光器(1)发射的第一激光脉冲与第二脉冲激光器(2)发射的第二激光脉冲之间具有一个时间延迟。

6.根据权利要求5所述的对激光镀层进行处理的系统，其特征在于，所述电调制是通过用电信号给第一脉冲激光器(1)和第二脉冲激光器(2)不用时间延迟触发信号，使第一激光脉冲和第二激光脉冲之间有一定的时间延迟。

7.根据权利要求5所述的对激光镀层进行处理的系统，其特征在于，所述光调制是通过改变第一激光脉冲和第二激光脉冲之间的光程差，从而实现第一激光脉冲和第二激光脉冲之间有一定的时间延迟。

8.根据权利要求5所述的对激光镀层进行处理的系统，其特征在于，所述第一激光脉冲和第二激光脉冲之间的时间延迟小于第一脉冲激光器发射脉冲间隔的1/2。

9.根据权利要求1所述的对激光镀层进行处理的系统，其特征在于，所述第一衰减器(3)和第二衰减器(4)调整第一脉冲激光器(1)和第二脉冲激光器(2)的输出功率，将焦点处的峰值功率控制在10⁵W/cm²到10⁹W/cm²。

10.根据权利要求1所述的对激光镀层进行处理的系统，其特征在于，所述光学振镜(12)将激光光束的扫描速度控制在0到10cm/s范围内，移动范围控制在10nm-100cm的范围内。

11.根据权利要求1所述的对激光镀层进行处理的系统，其特征在于，所述第一电子快门(5)和第二电子快门(6)分别控制第一激光脉冲与第二激光脉冲的通断和照射时间从1μs到100s。