[发明专利]掩膜及其制造方法无效

专利信息
申请号: 201210336373.7 申请日: 2012-09-12
公开(公告)号: CN102841501A 公开(公告)日: 2012-12-26
发明(设计)人: 吴泰必 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: G03F1/90 分类号: G03F1/90
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 欧阳启明
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 及其 制造 方法
【说明书】:

【技术领域】

发明涉及掩膜技术领域,特别涉及一种掩膜及其制造方法。

【背景技术】

目前,随着技术的发展,社会对有机发光二极管(OLED,Organic Light Emitting Diode)显示面板的重视程度越来越高。而大尺寸化是有机发光二极管显示面板的技术发展过程中的一个不可阻挡的趋势。

有机发光二极管显示面板的显示原理与液晶显示面板的显示原理不同,制造方法因此有一定的差别。其中,有机发光二极管显示面板中具有有机材料层,而在有机发光二极管显示面板的制造过程中,此有机材料层一般是通过蒸镀技术来形成,而蒸镀技术需要用到掩膜。

掩膜是蒸镀技术中的一个重要的部件。目前,用在蒸镀工艺上的掩膜尺寸有限,这制约了有机发光二极管显示面板往大尺寸化的方向发展。此外,掩膜的尺寸有限往往会导致在蒸镀工序中有机材料层附着于薄膜晶体管阵列的其它区域,影响有机发光二极管显示面板的品质。

故,有必要提出一种新的技术方案,以解决上述技术问题。

【发明内容】

本发明的一个目的在于提供一种掩膜,其能可以实现掩膜的大尺寸化,有利于有机发光二极管显示面板往大尺寸化方向发展。

为解决上述问题,本发明提供了一种掩膜,包括:第一子掩膜,所述第一子掩膜的一侧边缘具有第一结构;第二子掩膜,所述第二子掩膜的一侧边缘具有第二结构;所述第一子掩膜和所述第二子掩膜并列设置于一起,所述第一子掩膜与所述第二子掩膜位于同一平面,所述第一结构与所述第二结构为互补的结构。

在上述掩膜中,所述第一子掩膜具有第一表面和第二表面,所述第一表面和所述第二表面背向,所述第二子掩膜具有第三表面和第四表面,所述第三表面和所述第四表面背向,所述第一子掩膜和所述第二子掩膜并列设置于一起,并且所述第一子掩膜的第一表面和所述第二子掩膜的第三表面位于同一平面,所述第一子掩膜的第二表面和所述第二子掩膜的第四表面位于同一平面。

在上述掩膜中,所述第一结构和所述第二结构为在第一方向上互补的结构,所述第一方向为垂直于所述第一表面的方向,所述第一子掩膜的第一结构与所述第二子掩膜的第二结构在第一方向上重叠。

在上述掩膜中,所述第一结构为卡扣,所述第二结构为卡扣凹槽。

在上述掩膜中,所述第一结构和所述第二结构为在第二方向上互补的结构,所述第二方向为平行于所述第一子掩膜的中心和所述第二子掩膜的中心连线的方向,所述第一子掩膜的第一结构与所述第二子掩膜的第二结构在第二方向上重叠。

在上述掩膜中,所述第一结构为具有扣钩的齿状突块,所述第二结构为具有扣钩凹槽的齿状凹陷。

本发明的另一个目的在于提供一种掩膜的制造方法,其能可以实现掩膜的大尺寸化,有利于有机发光二极管显示面板往大尺寸化方向发展。

为解决上述问题,本发明提供了一种掩膜的制造方法,所述方法包括以下步骤:(A)提供第一子掩膜和第二子掩膜,所述第一子掩膜的一侧边缘具有第一结构,所述第二子掩膜的一侧边缘具有第二结构,所述第一结构与所述第二结构为互补的结构;(B)将所述第一子掩膜和所述第二子掩膜拼接为一体,使得所述第一子掩膜与所述第二子掩膜位于同一平面,所述第一子掩膜的第一结构和所述第二子掩膜的第二结构重叠。

在上述掩膜的制造方法中,所述步骤(A)还包括以下步骤:(a1)定义所述第一结构的形状和位置以及所述第二结构的形状和位置,使得所述第一结构与所述第二结构为互补的结构;(a2)在所述第一子掩膜上形成所述第一结构,以及在所述第二子掩膜上形成所述第二结构。

在上述掩膜的制造方法中,所述第一子掩膜的第一结构与所述第二子掩膜的第二结构在第一方向上重叠,所述第一方向为垂直于所述第一表面的方向,所述第一结构为卡扣,所述第二结构为卡扣凹槽。

在上述掩膜的制造方法中,所述第一子掩膜的第一结构与所述第二子掩膜的第二结构在第二方向上重叠,所述第二方向为平行于所述第一子掩膜的中心和所述第二子掩膜的中心的连线的方向,所述第一结构为具有扣钩的齿状突块,所述第二结构为具有扣钩凹槽的齿状凹陷。

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