[发明专利]一种显示面板及其制造方法、平板显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及图像显示领域，尤其涉及一种显示面板及其制造方法、平板显示装置。

背景技术

光刻制程在平板显示器的制造中至关重要，主要步骤为“薄膜沉积——光阻涂布——曝光——光阻显影——薄膜蚀刻——光阻剥离”。一般情况下，“光阻显影”是使用液态的显影液进行，而金属（合金）层的“薄膜蚀刻”是使用液态的蚀刻液进行，均为所谓的“湿制程”。在“湿制程”中，基板表面的薄膜图案会影响溶液中药剂的局部浓度，即：如果某处需要显影的光阻面积或需要蚀刻的金属（合金）面积大，则该处消耗的药剂多；反之，如果某处需要显影的光阻面积或需要蚀刻的金属（合金）面积小，则该处消耗的药剂少。

溶液普遍存在扩散作用，自发地倾向于保持各处浓度相等。因此当基板表面的薄膜图案差异很大时，显影或蚀刻时会出现药剂从高浓度区向低浓度区的扩散，从而导致图案边界区的显影或蚀刻效果与中心区明显不同。这种效应被称为“负载效应”（Loading Effect）。

下面以液晶面板的像素电极层的光阻显影制程为例，说明Loading Effect对普通液晶面板的图像显示区域（AA区）边缘的不利影响。

图1所示为现有普通液晶面板的像素电极层的设计，面板中心为AA区1，需要显影的光阻面积小；AA区外大部分为空白区2，需要显影的光阻面积大。从图1中选取AA区1的边缘区域A'处放大来看，内侧设计为正常像素区3，具有整齐的ITO（铟锡氧化物）电极阵列，外侧设计为空白区（无ITO电极阵列）4。然而由于Loading Effect的影响，实际光阻显影制程不能实现上述理想设计，实际结果如图2所示。同样，从图2中选取AA区1的边缘区域A'处放大来看，靠近空白区4的边缘区5将会由于光阻显影不充分而出现图案异常，但越靠内侧的像素异常程度将越轻，足够靠内的正常像素区3就能实现理想设计。Loading Effect影响光阻显影的具体过程为：在显影制程开始时刻，AA区1缓慢消耗了少量的显影剂，而空白区2迅速消耗了大量的显影剂，浓度差导致AA区1的显影剂整体向空白区2扩散。从AA区1的边缘区域A'处看，边缘区5的显影液浓度呈明显的梯度衰减，越靠近空白区4的显影液浓度越低；在显影制程的后续时间里，边缘区5的显影能力呈梯度降低，越靠近空白区4的像素的光阻显影程度越弱。Loading Effect使边缘区5的光阻显影程度减弱，必然导致其蚀刻制程后图案异常（主要表现为不能蚀刻出图案或者图案粗大）。

边缘区5由于出现图案异常，会造成图像显示缺陷，不仅其亮度、视角、响应时间等重要指标均有别于正常像素区3，而且还会影响正常像素区3的充放电特性，因此必须设法消除。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于，提供一种显示区域所显示图案保持正常、均一的一种显示面板及其制造方法、平板显示装置。

为了解决上述技术问题，本发明提供一种显示面板，包括图像显示区和围绕在所述图像显示区域外围的空白区，在所述图像显示区和空白区之间，沿所述图像显示区的外围边缘设有无显示功能的哑图案区。

进一步地，在所述显示面板的湿制程中，所述哑图案区与所述图像显示区相接处的溶液浓度和所述图像显示区的溶液浓度大致相同，所述哑图案区的溶液浓度自所述相接处向所述空白区递减。

进一步地，所述图像显示区域的溶液浓度维持不变。

进一步地，所述图像显示区、空白区和哑图案区设于所述显示面板中使用湿制程进行显影或蚀刻的图层，所述图层包括像素电极层、第一金属层或第二金属层。

进一步地，所述图像显示区、空白区和哑图案区设于所述像素电极层，所述哑图案区包括若干哑像素。

本发明实施例还提供一种显示面板的制造方法，包括步骤：

设置图像显示区和围绕在所述图像显示区域外围的空白区；

在所述图像显示区和空白区之间，沿所述图像显示区的外围边缘设置无显示功能的哑图案区。

进一步地，设置所述哑图案区满足以下条件：

在所述显示面板的湿制程中，所述哑图案区与所述图像显示区相接处的溶液浓度和所述图像显示区的溶液浓度大致相同，而所述哑图案区上的溶液浓度自所述相接处向所述空白区递减。

进一步地，所述图像显示区、空白区和哑图案区设于所述显示面板中使用湿制程进行显影或蚀刻的图层，所述图层包括像素电极层、第一金属层或第二金属层。

进一步地，所述图像显示区、空白区和哑图案区设于所述像素电极层，所述哑图案区包括若干哑像素。

本发明实施例还提供一种平板显示装置，包括所述的显示面板。