[发明专利]用于玻璃熔窑的无钙硅锆砖及其制造方法和玻璃熔窑无效
| 申请号: | 201210331691.4 | 申请日: | 2012-09-07 |
| 公开(公告)号: | CN102898155A | 公开(公告)日: | 2013-01-30 |
| 发明(设计)人: | 孙邢哲;梅德馨;梁德海 | 申请(专利权)人: | 孙邢哲;梅德馨;梁德海 |
| 主分类号: | C04B35/66 | 分类号: | C04B35/66;C04B35/622 |
| 代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
| 地址: | 100039 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 玻璃 无钙硅锆砖 及其 制造 方法 | ||
1.一种用于玻璃熔窑的无钙硅锆砖,其特征在于,包括:78%~90%的SiO2和8%~20%的ZrO2,其中,各单体含量的单位为该单体占所述无钙硅锆砖总质量的质量百分比;
所述无钙硅锆砖的体积密度为2.1g/cm3~2.2g/cm3。
2.根据权利要求1所述的无钙硅锆砖,其特征在于,杂质钙占所述无钙硅锆砖总质量的百分比不超过0.02%。
3.根据权利要求1或2所述的无钙硅锆砖,其特征在于,杂质Fe2O3的含量不超过所述无钙硅锆砖总质量的0.05%。
4.根据权利要求3所述的无钙硅锆砖,其特征在于,
所述无钙硅锆砖的气孔率为19%~21%。
5.根据权利要求1-4所述的无钙硅锆砖,其特征在于,
所述无钙硅锆砖的荷重软化温度大于等于1680℃。
6.一种玻璃熔窑,其特征在于,使用了权利要求1所述的无钙硅锆砖。
7.一种无钙硅锆砖的制造方法,其特征在于,包括:
准备原料,并将所述原料加工到符合要求的颗粒度,制备所述无钙硅锆砖的各原料组成和配比(质量百分比)如下:
粒度为3~1mm且纯度不小于99.9%的熔融石英25~30%,粒度为325目且纯度不小于99.9%的熔融石英20~25%,
粒度为3~1mm且纯度不小于65.5%的锆英石25~30%,粒度为325目且纯度不小于65.5%的锆英石15~20%,
纯度不小于92%的微硅粉1~2%,
粘结剂3~4%;
除去所述原料加工过程中出现的氧化铁;
按所述无钙硅锆砖的各原料组成和配比要求,进行颗粒级配,并加入粘结剂、矿化剂和适量的水进行混合;
将配制混合好的所述混合原料密封封存至少2小时,使所述粘结剂、矿化剂和原料进行化学反应;
将反应后的混合原料制成砖坯;
将所述砖坯进行干燥脱水;
将干燥好的砖坯进行烧结。
8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,
所述粘结剂为:55~65%的P2O5和15~25%的Al2O3的混合物,其中,各单体含量的单位为该单体占所述粘结剂总质量的质量百分比;
加入上述粘结剂时,所述将干燥好的砖坯进行烧结,具体为:
将干燥好的砖坯加温至大于等于600度,烧结至少3小时。
9.根据权利要求7或8所述的方法,其特征在于,所述将反应后的混合原料制成砖坯,具体为:
通过机压、手工捣打或浇注成型中的任一方式,将反应后的混合原料制成砖坯。
10.根据权利要求7-9任一项所述的方法,其特征在于,所述制备所述无钙硅锆砖的各原料组成和配比(质量百分比)如下:
粒度为1~3mm且纯度不小于99.9%的熔融石英30%,粒度为325目且纯度不小于99.9%的熔融石英20%,
粒度为1~3mm且纯度不小于65.5%的锆英石30%,粒度为325目且纯度不小于65.5%的锆英石15%,
纯度不小于92%的微硅粉1.5%,
粘结剂3.5%。
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