[发明专利]3D显示装置及其制作方法

权利要求书

1.一种3D显示装置，包括显示基板、阵列基板和位于所述显示基板和阵列基板之间的液晶层，其特征在于，所述显示基板包括第一基板、相位延迟层、第一偏光片和第一取向层，所述相位延迟层设置在所述第一基板的内表面，所述相位延迟层包括多条周期性排列且相互平行的相位延迟层条纹和多条黑矩阵，任意两个相邻的所述相位延迟层条纹之间以及整个所述相位延迟层条纹的周边设置所述黑矩阵，所述第一偏光片设置在所述相位延迟层的内表面，所述第一取向层位于所述第一偏光片的内表面；

所述相位延迟层条纹包括光取向层和液晶分子层，所述光取向层设置在所述第一基板的内表面，所述液晶分子层设置在所述光取向层和所述黑矩阵形成的空间内；

所述阵列基板包括第二基板、彩膜和第二偏光片，所述彩膜设置在所述第二基板的内表面，所述第二偏光片设置在所述第二基板的外表面。

2.根据权利要求1所述的3D显示装置，其特征在于，任意相邻两行所述光取向层的取向分别为45°和-45°。

3.根据权利要求1所述的3D显示装置，其特征在于，所述黑矩阵的厚度为0.96～1.56μm。

4.根据权利要求3所述的3D显示装置，其特征在于，所述黑矩阵的厚度为1.4μm。

5.根据权利要求1所述的3D显示装置，其特征在于，所述第一偏光片为贴合在一起的三醋酸纤维素层和聚乙烯醇层，或者为贴合在一起的三醋酸纤维素层、聚乙烯醇层和三醋酸纤维素层，而且所述三醋酸纤维素层与所述相位延迟层相邻。

6.一种3D显示装置的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供第一基板；

通过构图工艺，在所述第一基板的内表面形成黑矩阵；

在所述基板的内表面且未形成有黑矩阵的区域形成光敏材料层；

用线偏振紫外光照射光敏材料层形成所述光取向层，并使任意相邻两行所述光取向层取向的不同；

在所述光取向层和所述黑矩阵形成的空间内形成液晶分子层，所述光取向层和所述液晶分子层形成了周期性排列且相互平行的相位延迟层条纹，而且所述黑矩阵和所述相位延迟层条纹构成相位延迟层；

在所述相位延迟层的内表面形成所述第一偏光片；

在所述第一偏光片入光侧的表面形成第一取向层；

制作阵列基板，将所述阵列基板和所述显示基板之间形成液晶并对盒。

7.根据权利要求6所述的3D显示装置的制作方法，其特征在于，在所述通过构图工艺在所述第一基板的内表面形成黑矩阵中，所述黑矩阵的厚度为0.96～1.56μm。

8.根据权利要求6所述的3D显示装置的制作方法，其特征在于，所述用线偏振紫外光照射形成所述光取向层，并使任意相邻两行所述光取向层的取向不同，包括：先用遮光板将奇数行所述光取向层所在区域遮挡，对偶数行所述光取向层所在区域进行曝光；再用遮光板将偶数行所述光取向层所在区域遮挡，对奇数行所述光取向层所在区域进行曝光；或者，先用遮光板将偶数行所述光取向层所在区域遮挡，对奇数行所述光取向层所在区域进行曝光；再用遮光板将奇数行所述光取向层所在区域遮挡，对偶数行所述光取向层所在区域进行曝光；从而使任意相邻两行所述光取向层形成不同取向。

9.根据权利要求6所述的3D显示装置的制作方法，其特征在于，任意两行相邻的所述光取向层的取向分别为45°和-45°。

10.根据权利要求6所述的3D显示装置的制作方法，其特征在于，所述第一偏光片包括三醋酸纤维素层和聚乙烯醇层，所述在所述相位延迟层的内表面形成所述第一偏光片，包括：

提供三醋酸纤维素层和聚乙烯醇层；

将所述三醋酸纤维素层和所述聚乙烯醇层贴合在一起形成所述第一偏光片；

将所述第一偏光片贴在所述相位延迟层的内表面，并使所述三醋酸纤维素层与所述相位延迟层相邻；

或者，将三醋酸纤维素层和所述聚乙烯醇层依次叠置在所述相位延迟层的内表面，从而在所述相位延迟层的内表面形成所述第一偏光片。

11.根据权利要求6所述的3D显示装置的制作方法，其特征在于，所述第一偏光片包括三醋酸纤维素层、聚乙烯醇层和三醋酸纤维素层，所述在所述相位延迟层的内表面形成所述第一偏光片，包括：

提供三醋酸纤维素层和聚乙烯醇层；

依次将所述三醋酸纤维素层、所述聚乙烯醇层和所述三醋酸纤维素层贴合在一起形成所述第一偏光片；

将所述第一偏光片贴在所述相位延迟层的内表面；

或者，将三醋酸纤维素层、所述聚乙烯醇层和所述三醋酸纤维素层依次叠置在所述相位延迟层的内表面，从而在所述相位延迟层的内表面形成所述第一偏光片。