[发明专利]基板处理装置和基板处理方法

权利要求书

1.一种基板处理装置，其对从作为搬入至载体块的基板输送容器的载体送出的基板在处理块中进行液体处理，在该液体处理之后，接着在模块中进行后处理，将结束包括所述液体处理和后处理的一系列处理的基板交接给载体，该基板处理装置的特征在于，包括：

液体处理部，其包括：液体处理模块，其设置于所述处理块，通过将保持基板水平的基板保护部的周围用杯体包围而形成；和按照与基板的批次对应的处理液的每个种类准备的多个喷嘴；

输送机构，其用于在所述处理块内进行基板的输送；

监视部，其监视所述喷嘴的处理液的喷出是否存在问题；和

控制部，其输出控制信号，使得对于使用由该监视部判断为存在问题的喷嘴的基板，禁止其在该液体处理部中的液体处理，对于使用该喷嘴以外的喷嘴的基板，使其在该液体处理部中进行液体处理。

2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于：

所述液体处理部排列有多个所述液体处理模块，从外部依次搬入基板，

所述喷嘴单元对于多个液体处理模块共用，在多个液体处理模块的上方区域之间移动。

3.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于：

所述监视部包括：

检查部，其对在所述液体处理部中进行液体处理后的基板进行检查；

存储部，其存储包含各个所述多个液体处理模块的基板的输送路径的信息；和

判断部，其使用所述检查部中的基板的检查结果和基板的输送路径的信息，对于所述多个液体处理模块的全部，在液体处理模块中处理后的基板为不良品时，判断为在该基板的处理中使用的喷嘴的喷出状态存在问题。

4.如权利要求1～3中任一项所述的基板处理装置，其特征在于：

所述控制部输出控制信号，使得已从载体送出、使用被判断为存在问题的喷嘴的基板，通过在所述液体处理后进行后处理的模块，而不进行该后处理。

5.如权利要求1～3中任一项所述的基板处理装置，其特征在于：

所述控制部输出控制信号，使得对于处于从载体送出之前的状态且使用被判断为存在问题的喷嘴的基板，禁止其从载体送出。

6.如权利要求1～3中任一项所述的基板处理装置，其特征在于：

设置有多个所述液体处理部，

所述控制部控制输送机构，使得在一个液体处理部中判断为在喷嘴中存在问题时，使用该喷嘴的基板在其它的液体处理部进行液体处理。

7.一种基板处理方法，其对从作为搬入至载体块的基板输送容器的载体送出的基板在处理块中进行液体处理，在该液体处理之后，接着在模块中进行后处理，将结束包括所述液体处理和后处理的一系列处理的基板交接给载体，该基板处理方法的特征在于：

使用液体处理部，该液体处理部包括：液体处理模块，其设置于所述处理块，通过将保持基板水平的基板保护部的周围用杯体包围而形成；和按照与基板的批次对应的处理液的每个种类准备的多个喷嘴，

该基板处理方法包括：

利用输送机构向所述液体处理模块搬入基板的工序；

从喷出与所述基板对应的种类的处理液的喷嘴向基板喷出处理液进行液体处理的工序；

监视所述喷嘴的处理液的喷出是否存在问题的工序；和

控制所述输送机构，使得对于使用通过该监视工序判断为存在问题的喷嘴的基板，禁止其在该液体处理部中的液体处理，对于使用该喷嘴以外的喷嘴的基板，使其在该液体处理部中进行液体处理的工序。

8.如权利要求7所述的基板处理方法，其特征在于：

所述液体处理部排列有多个所述液体处理模块，由外部依次搬入基板，

所述喷嘴单元对于多个液体处理模块共用，在多个液体处理模块的上方区域之间移动。

9.如权利要求8所述的基板处理方法，其特征在于：

所述监视工序包括：

对在所述液体处理部中进行液体处理后的基板进行检查的工序；

存储包含各个所述多个液体处理模块的基板的输送路径的信息的工序；和

使用所述检查部中的基板的检查结果和基板的输送路径的信息，对于所述多个液体处理模块的全部，在液体处理模块中处理后的基板为不合格时，判断为在该基板的处理中使用的喷嘴的喷出状态存在问题的工序。