[发明专利]一种化学溶液沉积制备Gd2Zr2O7缓冲层的方法有效

专利信息
申请号: 201210318922.8 申请日: 2012-09-03
公开(公告)号: CN102851655A 公开(公告)日: 2013-01-02
发明(设计)人: 雷鸣;赵勇;武伟;蒲明华;张勇 申请(专利权)人: 西南交通大学
主分类号: C23C20/08 分类号: C23C20/08
代理公司: 成都中亚专利代理有限公司 51126 代理人: 王岗
地址: 610031 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 化学 溶液 沉积 制备 gd sub zr 缓冲 方法
【说明书】:

技术领域

本发明属于高温超导涂层导体研究领域,涉及一种化学溶液沉积法制备Gd2Zr2O7缓冲层的方法。

背景技术

第二代高温超导带材,由于其优良的本征电磁特性,尤其是其在高磁场下优良的载流能力,在电力系统中拥有广阔的应用前景。

高温超导涂层导体组成包括三部分,基底、缓冲层、超导层,缓冲层材料在其中既作为生长模板,又充当阻隔层,作用重大。La2Zr2O7由于热稳定性以及与NiW基底和YBCO很好的化学匹配性,已成为涂层导体研究的热点。Gd2Zr2O7和La2Zr2O7一样是具有烧绿石结构的复合氧化物材料,从与YBCO和NiW晶格匹配角度来讲,Gd2Zr2O7也满足作为缓冲层的条件。近年来,大部分是采用价格昂贵的金属醇盐为原料来制备La2Zr2O7(LZO),因此成本高,故需要加以改进,为了进一步降低成本,本专利中采用硝酸盐Gd(NO3)3.6H2O和ZrO(NO3)3.2H2O为前驱物来制备高品质的Gd2Zr2O7薄膜,代替La2Zr2O7

发明内容

本发明的目的在于提供一种价格低廉,有利于大规模工业化生产的制备Gd2Zr2O7缓冲层的方法,该方法制备工艺与物理法相比简单易行、成本低、不污染环境、可大规模工业化生产。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案为,一种化学溶液沉积制备Gd2Zr2O7缓冲层的方法,其特征在于:依次由以下步骤构成:

a、Gd2Zr2O7前驱溶液的制备:

将Gd (NO3)3.6H2O和ZrO(NO3)3.2H2O按照离子浓度Gd+3:Zr+4为1:1溶于羟乙基甲基醚中,加入氧化聚乙烯20000调节溶液的黏度,获得前驱溶液;

b、湿膜的制备:将所获得的前驱溶液均匀涂覆在织构基带上,获得湿膜。

c、干膜的制备:将湿膜进入恒温干燥设备,完全去除薄膜中水份。

d、分解成相:

放入通有H2/Ar还原气氛的热处理炉内,先以1℃/min-5℃/min速率升温至350℃-600℃,让有机物和硝酸盐充分分解,后直接升温至成相高温区1100℃-1200℃,保温0.5-2小时,获得Gd2Zr2O7薄膜。

2、根据权利要求1所述的一种化学溶液沉积制备Gd2Zr2O7缓冲层的方法,其特征在于:所述a步中,硝酸钆、硝酸锆和羟乙基甲基醚的用量比为:1摩尔(硝酸钆+硝酸锆):0.5-3升体积羟乙基甲基醚。

根据本发明所述的一种化学溶液沉积制备Gd2Zr2O7缓冲层的方法,其特征在于:所述a步中,氧化聚乙烯20000的加入量为前驱溶液总质量的3wt.﹪-5wt.﹪。

本发明技术方案有益效果在于:与现有技术相比,其一,采用硝酸盐体系化学溶液沉积法,极大地降低了制备成本,并且化学法更易大规模工业化生产; 其二,制备的Gd2Zr2O7薄膜性能可以与La2Zr2O7相媲美。

附图说明

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