[发明专利]一种等离子处理系统有效
| 申请号： | 201210317750.2 | 申请日： | 2012-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN102820197A | 公开（公告）日： | 2012-12-12 |
| 发明（设计）人： | 叶如彬 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/244 | 分类号： | H01J37/244;H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人： | 张静洁;徐雯琼 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 等离子 处理 系统 | ||
1.一种等离子处理系统，包含等离子反应腔体（5），一个控制器控制等离子反应腔体内等离子处理流程，一个真空气泵（6）通过排气管道（4）将等离子反应腔体内的气体排出，其特征在于，还包含：
采气管道（1），所述的采气管道（1）连接在排气管道（4）上，采集排气管道（4）中的气体；
一个采样等离子体发生装置对流经采气管道（1）的气体电离形成采样等离子体；
所述控制器探测所述采气管道（1）中形成的采样等离子体信号，并根据所述采样等离子体信号控制所述等离子处理流程。
2.如权利要求1所述的等离子处理系统，其特征在于，所述的采样等离子体发生装置包含：一个以上电极（2），所述的一个以上电极（2）设置在采气管道（1）上，所述一个以上电极（2）中至少一个电极（2）连接有一个高压电源。
3.如权利要求2所述的等离子处理系统，其特征在于，所述的高压电源的电压范围为500V~10kV，频率范围为100Hz~20kHz。
4.如权利要求1所述的等离子处理系统，其特征在于，所述的采样等离子体发生装置包含：一个线圈（7），所述的线圈（7）的两端之间连接有射频电源。
5.如权利要求4所述的等离子处理系统，其特征在于，所述的射频电源的频率范围为1MHz~100MHz。
6.如权利要求1所述的等离子处理系统，其特征在于，所述的采气管道（1）的直径的数量级为毫米级。
7.如权利要求6所述的等离子处理系统，其特征在于，所述的采气管道（1）的直径范围为0.1mm~20mm。
8.如权利要求6所述的等离子处理系统，其特征在于，所述的采气管道（1）的材料为玻璃或设有透明窗口的陶瓷。
9.如权利要求1所述的等离子处理系统，其特征在于，所述的采气管道（1）上进气的一端还设有进气泵（3）。
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