[发明专利]电切换调光单元与其形成方法、调光元件与其形成方法、立体显示装置、图像显示系统

权利要求书

1.一种电切换调光单元，包括：

一第一基板；

一第一与第二电极位于该第一基板上；

一介电层形成于该第一基板上，以覆盖该第一与第二电极；

一隔墙；

一第二基板位于该隔墙上，且该第二基板包括一第三电极；以及

一第一与第二调光介质填入一密闭空间中，该密闭空间由该介电层、该第二基板、与该隔墙定义，

其中该第一与第二调光介质实质上不互溶且具有不同折射率，

其中该第一调光介质与该第二调光介质中至少一者，湿润该第二基板与该隔墙中至少一者。

2.如权利要求1所述的电切换调光单元，还包括一光源，且该隔墙位于该介电层上。

3.如权利要求1所述的电切换调光单元，其中该密闭空间的形状利于毛细现象。

4.如权利要求2所述的电切换调光单元，其中该光源包括冷阴极荧光灯背光模块或有机发光二极管背光模块。

5.如权利要求1所述的电切换调光单元，其中该第一与第二电极的施加电位不同。

6.如权利要求1所述的电切换调光单元，其中该第一与第二调光介质中的一者包括一气态介质。

7.如权利要求1所述的电切换调光单元，其中该第三电极包括一分段电极。

8.如权利要求1所述的电切换调光单元，其中该第三电极包括一共同电极。

9.如权利要求1所述的电切换调光单元，其中该隔墙的形成方法择自下列群组中的一者：光刻法、转印法、冲压法、激光剥除法、喷砂法、及直接或间接印刷法。

10.如权利要求1所述的电切换调光单元，其中该隔墙的形成方法为射出成型法。

11.如权利要求1所述的电切换调光单元，其中该第一、第二、与第三电极施加不同的电压，以驱动该第一与第二调光介质。

12.如权利要求1所述的电切换调光单元，其中该密闭空间包括一阶梯状结构。

13.如权利要求1所述的电切换调光单元，其中该密闭空间包括至少两个不同截面形状的部分。

14.一种电切换调光单元，包括：

一第一基板；

一第一与第二电极位于该第一基板上；

一介电层形成于该第一基板上，以覆盖该第一与第二电极；

一隔墙；

一第二基板位于该隔墙上，且该第二基板包括一第三电极；

一第一与第二调光介质填入一密闭空间中，该密闭空间由该介电层、该第二基板、与该隔墙定义，

其中该第一与第二调光介质实质上不互溶且具有不同折射率；以及

一层状物位于该第二基板与该隔墙中至少一者上，其中该第一调光介质与该第二调光介质中至少一者湿润该层状物。

15.一种电切换调光单元，包括：

一第一基板；

一第一与第二电极位于该第一基板上；

一介电层形成于该第一基板上，以覆盖该第一与第二电极；

一隔墙；

一第二基板位于该隔墙上，且该第二基板包括一第三电极；

一第一与第二调光介质填入一密闭空间中，该密闭空间由该介电层、该第二基板、与该隔墙定义，

其中该第一与第二调光介质实质上不互溶且具有不同折射率；

其中该密闭空间的形状利于毛细现象。

16.如权利要求15所述的电切换调光单元，其中该第一调光介质与该第二调光介质中至少一者湿润该隔墙。

17.如权利要求15所述的电切换调光单元，其中该密闭空间包括一阶梯状结构。

18.如权利要求15所述的电切换调光单元，其中该密闭空间包括至少两个不同截面形状的部分。

19.如权利要求15所述的电切换调光单元，其中该第一与第二电极位于该第一基板的上表面上。

20.如权利要求15所述的电切换调光单元，其中该第一与第二电极位于该第一基板上，且该第一与第二电极在同一水平线上。

21.一种调光元件，包括多个权利要求15所述的电切换调光单元。