[发明专利]含氢氟酸处理液的再生方法和再生装置

权利要求书

1.一种含氢氟酸处理液的再生方法，其特征在于，在对用于处理硅基板、玻璃基板或其它含硅材料的含氢氟酸处理液进行再生的方法中，包括以下工序：

测定使用后的含氢氟酸处理液中溶解的六氟硅酸离子、四氟硼酸离子或者其它形成不溶性钾盐的离子物种的浓度的工序；

根据由所测定的浓度求出的理论计算量，添加钾离子供给物种，使不溶性钾盐析出的工序；

将析出后的悬浊液分离为由不溶性钾盐构成的固形物及澄清的含氢氟酸液体的固液分离工序；

测定所得澄清的含氢氟酸液体中的氢氟酸、硝酸、盐酸、氟化铵或者其它活性物种的浓度的工序；以及

根据该浓度测定结果，追加氢氟酸、硝酸、盐酸、氟化铵或其它活性物种的工序。

2.根据权利要求1所述的含氢氟酸处理液的再生方法，其特征在于，含氢氟酸处理液是用于对多晶型硅晶片进行纹理加工的处理液，其包含氢氟酸和硝酸作为活性物种，

作为形成不溶性钾盐的离子物种，测定六氟硅酸的浓度，作为钾离子供给物种，使用氢氧化钾、硝酸钾或其它的仅生成处理液所含离子物种的钾盐，

测定所得澄清的含氢氟酸液体中的氢氟酸和硝酸的浓度，根据该浓度测定结果，追加氢氟酸和硝酸。

3.根据权利要求1所述的含氢氟酸处理液的再生方法，其特征在于，含氢氟酸处理液是用于将平板显示器用玻璃基板或其它玻璃基板薄板化的处理液，其包含氢氟酸和盐酸作为活性物种，

作为形成不溶性钾盐的离子物种，测定六氟硅酸的浓度，作为钾离子供给物种，使用氯化钾、氢氧化钾或其它的仅生成处理液所含离子物种的钾盐，

测定所得澄清的含氢氟酸液体中的氢氟酸和盐酸的浓度，根据该浓度测定结果，进行氢氟酸的追加以及盐酸浓度的调整。

4.根据权利要求1所述的含氢氟酸处理液的再生方法，其特征在于，含氢氟酸处理液是用于缓冲蚀刻加工的处理液，其包含氟化铵作为活性物种，

作为形成不溶性钾盐的离子物种，测定六氟硅酸铵的浓度，作为钾离子供给物种，使用氢氧化钾或其它的仅生成处理液所含离子物种的钾盐，

测定所得澄清的含氢氟酸液体中的氢氟酸和氟化铵的浓度，根据该浓度测定结果，追加氢氟酸和氟化铵。

5.一种对用于处理硅基板、玻璃基板或其它含硅材料的含氢氟酸处理液进行再生的装置，其特征在于，该装置包括：

收纳并贮存使用后的含氢氟酸处理液的贮存槽；

测定该贮存槽中的含氢氟酸处理液中的六氟硅酸离子或四氟硼酸离子的浓度的浓度测定装置；

收纳来自贮存槽的含氢氟酸处理液的析出反应部；

根据由所测定的浓度求出的理论计算量，在析出反应部中添加钾离子供给物种的析出用药液供给部；

通过静置并取出上清液、过滤或其它固液分离手段，将析出反应部的悬浊液分离为由不溶性钾盐构成的固形物及澄清的含氢氟酸液体的固液分离机构；

测定该澄清的含氢氟酸液体中的氢氟酸、硝酸、盐酸、氟化铵或其它活性物种的浓度的装置；以及

根据该浓度测定结果追加氢氟酸、硝酸、氟化铵或其它活性物种，或者通过稀释或部分蒸发来调整浓度的机构。