[发明专利]含有抗静电剂的粘合剂组合物以及粘合膜有效

专利信息
申请号: 201210313374.X 申请日: 2012-08-29
公开(公告)号: CN102965057A 公开(公告)日: 2013-03-13
发明(设计)人: 长仓毅;岛口龙介 申请(专利权)人: 藤森工业株式会社
主分类号: C09J133/08 分类号: C09J133/08;C09J133/10;C09J11/06;C09J7/02;G02B5/30
代理公司: 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 代理人: 程伟
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 含有 抗静电 粘合剂 组合 以及 粘合
【权利要求书】:

1.一种含有抗静电剂的粘合剂组合物,所述粘合剂组合物以(甲基)丙烯酸类聚合物作为主要成分,作为上述抗静电剂,其含有式1所示的离子化合物,该离子化合物具有有机阳离子,所述有机阳离子包含含有可水解的硅的基团,

[化学式1]

Z+X-        (式1)

(只是,在式1中,Z+表示阳离子,X-表示阴离子)。

2.根据权利要求1所述的粘合剂组合物,其中上述离子化合物的阳离子Z+为式2所示的1种或2种以上的含有烷氧基甲硅烷基的阳离子,

[化学式2]

(R1O)n(R2)3-nSi-Q1-E-Q2-COO-Q3-V+        (式2)

(只是,在式2中,

R1和R2表示彼此相同或不同的烷基,

n表示1-3的整数,

Q1表示碳原子数为1至10的亚烷基,

E表示NH或S,

Q2表示单键或碳原子数为1至10的亚烷基,

Q3表示碳原子数为1至10的亚烷基,

V+表示选自铵基、吡啶嗡基、吡咯烷鎓基、咪唑鎓基、胍鎓基、异脲鎓基、硫脲鎓基、哌啶鎓基、吡唑鎓基、吗啉鎓基、鏻基、锍基的一价的阳离子基,该阳离子基可以是无取代基或具有取代基)。

3.根据权利要求1或2所述的粘合剂组合物,其中上述含有可水解的硅的基团为选自三甲氧基甲硅烷基、三乙氧基甲硅烷基、甲基二甲氧基甲硅烷基、甲基二乙氧基甲硅烷基、乙基二甲氧基甲硅烷基、乙基二乙氧基甲硅烷基的烷氧基甲硅烷基。

4.根据权利要求1或2所述的粘合剂组合物,其中上述(甲基)丙烯酸类聚合物为由(A)烷基的碳原子数为C1~C14的(甲基)丙烯酸烷基酯单体的至少1种与(B)含有羟基和/或羧基的可共聚的乙烯基单体的至少1种形成的共聚组合物,

相对于上述共聚组合物的100重量份,上述抗静电剂含有0.1~20重量份(C)上述式1所示的离子化合物作为必要成分。

5.根据权利要求1或2所述的粘合剂组合物,其中上述(甲基)丙烯酸类聚合物为由(A)烷基的碳原子数为C1~C14的(甲基)丙烯酸烷基酯单体的至少1种与(B’)具有乙烯基的可共聚的乙烯基单体的至少1种形成的共聚组合物,

相对于上述共聚组合物的100重量份,上述抗静电剂含有0.1~20重量份(C)上述式1所示的离子化合物作为必要成分。

6.根据权利要求1或2所述的粘合剂组合物,其中由上述粘合剂组合物形成的粘合剂层的表面电阻率为1.0×10+12Ω/□以下。

7.根据权利要求1-6中任一项所述的粘合剂组合物,其中上述离子化合物的阴离子X-为选自六氟化磷酸阴离子、双(氟磺酰)亚胺阴离子、三(五氟乙基)三氟磷酸根阴离子、双(三氟甲磺酰)亚胺阴离子、硫氰酸阴离子、烷基苯磺酸阴离子、高氯酸阴离子盐、四氟化硼酸阴离子组成的无机或有机阴离子组的1种或2种以上。

8.一种粘合膜,其特征在于在基材的一面上层积权利要求7中所述的粘合剂组合物。

9.一种粘合膜,其特征在于在基材的一面上层积由权利要求7中所述的粘合剂组合物形成的粘合剂层。

10.一种表面保护膜,其使用权利要求9中所述的粘合膜。

11.一种偏光板用表面保护膜,其使用权利要求9中所述的粘合膜。

12.一种光学用表面保护膜,其使用权利要求9中所述的粘合膜。

13.一种附有粘合剂的光学膜,其在光学膜的至少一面上层积由权利要求7中所述的粘合剂组合物形成的粘合剂层。

14.如权利要求13所述的附有粘合剂的光学膜,其中上述光学膜为偏光板。

15.一种图像显示装置,其由经由上述粘合剂层贴合如权利要求13所述的附有粘合剂的光学膜而形成。

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