[发明专利]一种液晶显示面板及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种液晶显示面板及其制造方法，特别是一种用于TFT-LCD的曝光制程中的液晶显示面板。

背景技术

图1和图2是现有技术中液晶显示面板的示意图和剖面图，液晶显示面板100包括透明石英玻璃10和金属图形21，金属图形21是由透明石英玻璃10表面上成膜、描写、蚀刻等工艺形成的，其厚度为几百到一千埃左右。

在液晶显示面板的制作和使用过程中，由于摩擦等原因，会使液晶显示面板上的金属图形带静电，当电荷积累到一定程度时，静电荷通常会由液晶显示面板上相邻的两图案的尖角之间，以点对点尖端放电的方式来达到释放静电的效果，这就会造成两块金属图形之间放电形成金属图形短路，破坏金属图形的完整性，如图3中的212处即为静电放电后的两金属图形21短路的示意图。特别是当金属图形间距小于20um时，更容易发生静电放电问题。当金属图形破坏后，液晶显示面板将不能使用。这将使液晶显示面板的加工制作的合格率下降。

现有技术避免静电放电是通过增加金属图形之间间隔的方法来避免，或使用桥接，但在液晶显示面板制作过程中的光罩上间隙等的限制（需要间距30um以上），增加间距或桥接不能完全实现，所以采取其他方法进行改善静电。

发明内容

发明目的：针对上述现有技术存在的问题和不足，本发明的目的是提供一种液晶显示面板及其制造方法，来避免因静电积累而导致尖端放电破坏金属图形因此而损坏液晶显示面板的使用。

技术方案：为了实现上述发明目的，本发明采用的第一技术方案为一种液晶显示面板，包括：一基座、一金属图形，所述金属图形位于基座表面，在所述基座的表面，涂布一层透明导电薄膜层。

本发明的第二技术方案为一种液晶显示包括：一基座、一金属图形，所述金属图形位于基座表面，在所述金属图形的表面，涂布一层透明导电薄膜层。

其中第一技术方案或第二技术方案中所述透明导电薄膜层的厚度为0.01um~1um；所述透明导电薄膜层的材料为ITO或IGZO；金属图形层为铬金属形成；以及所述基座为透明的石英玻璃。

本发明采用的第三技术方案为一种制造液晶显示面板的方法，包括如下步骤：

（1）、提供一基座，在该基座上形成一层透明导电薄膜层；

（2）、在上述透明导电薄膜层上形成金属图形。

本发明采用的第四技术方案为一种制造液晶显示面板的方法包括如下步骤：

（1）、提供一基座，在基座上形成金属图形；

（2）、在上述成金属图形的表面形成一层透明导电薄膜层。

其中，在第三和第四方案中所述的透明导电薄膜层的形成方式为Sputter方式或Coater方式镀上，以及所述基座为透明的石英玻璃。

有益效果：采用该技术方案后，液晶显示面板在制作或使用中就不会有静电效应的破坏的状况，消除了液晶显示面板报废的风险，并能减小图形之间的距离，有利于将像素精细化。

图1为现有技术液晶显示面板的示意图；

图2为图1中A-A’的剖面示意图；

图3为现有技术中液晶显示面板金属图形短路的示意图；

图4为本发明第一实施方案的液晶显示面板剖面图示意图；

图5为本发明第二实施方案的液晶显示面板剖面图示意图；

图6为本发明在基座上形成透明导电薄膜层的示意图；

图7为本发明形成金属图形的示意图；

图8为本发明在基座上形成形成金属图形的示意图；

图9为本发明形成透明导电薄膜层的示意图；

图中100、液晶显示面板，10、基座，20、金属图形层，21、金属图形，30、透明导电薄膜。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例，进一步阐明本发明，应理解这些实施例仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围，在阅读了本发明之后，本领域技术人员对本发明的各种等价形式的修改均落于本申请所附权利要求所限定的范围。