[发明专利]金属屏蔽的制造方法及用于制造金属屏蔽的镭射开孔装置

说明书

技术领域

本发明涉及金属屏蔽的制造方法及用于制造该金属屏蔽的镭射开孔装置，尤其涉及一种可提高良率的屏蔽制造方法及镭射开孔装置。

背景技术

现有技术中，主动矩阵有机发光二极管（Active-matrix organic light-emitting diode,AMOLED）蒸镀罩的制造方法是先以图案化蚀刻的方式在一片厚度仅约40μm的金属薄板上形成多个微小的网孔，以作成一蒸镀网。该蒸镀网上的每一网孔的大小仅约50μm，且相邻网孔之间的间距仅约70μm。

另一种制造上述蒸镀网的方法，如美国专利公开第2011/0183271号所示，该方法是先在一金属薄板上形成复数个(长条)孔，再利用激光束将这些孔的孔壁修整成斜面状，从而形成该蒸镀网上的网孔。

如图10所示，当蒸镀网80完成后，将该蒸镀网80置于一金属框82上，并利用多个夹具（图中未示）将该蒸镀网80的各边（至少两边）加以夹持并向外拉伸，以拉平该蒸镀网80。然而，由于该蒸镀网80及其上的这些第一网孔801的尺寸都是微米等级。故，要在该蒸镀网80的第一网孔801不变形的前提下将该蒸镀网80拉平，并非易事。

一般来说，在拉平一张蒸镀网的过程中，通常需要将该蒸镀网与一母玻璃进行比对作业，若该蒸镀网的网孔与该母玻璃上的标准网孔位置相对齐，则代表该蒸镀网的网孔被这些夹具的拉过之后没有产生变形，随后即可将该蒸镀网焊接固定于该金属框，并藉由一总间距（Total pitch）量测机执行总间距检查，以确认该蒸镀网的网孔位置是否位在可容许的误差范围内。该蒸镀网的网孔通常被要求需符合总间距误差（total pitch error）小于±5μm，及符合其与母玻璃的标准网孔的开孔精度误差小于±3μm的双重检查标准。然而，若比对结果不在上述的检查标准内，就表示该蒸镀网上的网孔在该些夹具拉伸该蒸镀网的过程中发生变形或位移，此时就需要去调整该些夹具的拉伸力道，直到比对结果符合检查标准为止。

上述蒸镀罩的制造方法不但步骤复杂，且在该些夹具拉伸该蒸镀网的过程中，很容易导致该蒸镀网的网孔变形或位移，而需要花费很多时间去调整该些夹具的拉伸力道。此外，在将该蒸镀网焊接到该金属框的过程中，该蒸镀网的网孔也有可能会发生变形或位移，故焊接完成后还需要花费许多工夫去执行Total pitch检查。由此可知，这种习知的AMOLED蒸镀罩制造方法一直存在着制造效率差及良率低落的问题而亟待解决。

图11为台湾公开第200526794号专利申请案所揭露的又一种AMOLED蒸镀罩制造装置的分解结构示意图。该制造方法是先将一金属薄板91贴于一张网架92中间的网布920上，藉由该网布920使该金属薄板91的表面维持水平。接着，利用镭射切割在该金属薄板91形成多个第二网孔910。再将一固定框93置于该金属薄板91底部，并利用第一冶具94、第二冶具95将该固定框93及该金属薄板91压合，以进行焊接作业，使得该固定框93与该金属薄板91焊接在一起。最后，将该固定框93连同该金属薄板91从该张网架92上裁切下来，以得到该蒸镀罩。

发明内容

为了克服上述缺陷，本发明提供了一种金属屏蔽的制造方法及用于制造金属屏蔽的镭射开孔装置，能够有效提高产品良率。

本发明为了解决其技术问题所采用的技术方案是：该制造方法包括执行一金属框入料作业，用以将一金属框置于一工作台上，该工作台具有一支撑装置，并使该金属框套设于该支撑装置外围。接着，执行一金属薄板入料作业，用以将一金属薄板平置于该金属框与该支撑装置所共构的一顶面上。接下来，执行一焊接作业，用以将该金属薄板与该金属框焊接在一起，以形成一屏蔽雏型。最后，藉由一镭射开孔装置执行一镭射开孔作业，用以在该屏蔽雏型的金属薄板上形成复数个网孔。

其中，该镭射开孔装置包括一机台、能够移动设于该机台上的一移载机构、设于该移载机构的一镭射头及一计算机装置。该计算机装置用以控制该移载机构连同该镭射头的移动，并控制该镭射头执行该雷射开孔作业。

较佳地，该镭射开孔装置还包括一检查装置，该检查装置设于该移载机构上。

本发明的制造方法还包括藉由该检查装置执行一检查作业及一校正作业。该计算机装置在该镭射头进行该镭射开孔作业时，控制该检查装置执行该检查作业，以及对该镭射头执行一校正作业，以使该金属薄板上由该镭射开孔作业所制作出来的网孔能符合标准。