[发明专利]双层涂布的负性光致抗蚀干膜

权利要求书

1.一种双层涂布的负性光致抗蚀干膜，由载体薄膜、覆盖薄膜、光阻剂层及中间保护层组成，其特征在于：

中间保护层位于载体薄膜及光阻剂层之间是无色透明的，在光阻剂层的显影液中可溶解,其重量平均分子量为20,000～150,000，醇化度为60～100%的聚乙烯醇或含有羧基的高分子聚合物，其厚度在0.5μm及10μm之间；

光阻剂层曝光的部分不溶于碱性的显影水溶液，而未曝光部分可溶于显影液而成像，其组份中含有高分子粘合剂、光游离基引发剂、可加聚单体、热聚合抑制剂，亦可添加包括染料,增塑剂或粘着剂在内的添加剂；光阻剂层厚度是在10μm～100μm之间；

载体薄膜及覆盖薄膜均为没有光学透明及无色要求的可成膜的高分子材料。

2.权利要求1所述双层涂布的负性光致抗蚀干膜，其特征在于所述的高分子粘合剂是重量平均分子量为20,000～200,000，Tg为80℃～120℃的含有羧基的高分子聚合物。

3.权利要求1或2所述双层涂布的负性光致抗蚀干膜，其特征在于所述的高分子粘合剂是重量平均分子量为40,000～100,000，Tg为95℃～110℃的含有羧基的高分子聚合物。

4.权利要求1所述双层涂布的负性光致抗蚀干膜，其特征在于所述的高分子粘合剂至少由两个单体聚合而成，第一种单体为具有至少含有3到15个碳原子的α，β不饱和的含有羧基的单体，可以是肉桂酸、巴豆酸、山梨酸、丙烯酸及甲基丙烯酸；第二种单体为第一种单体所对应的酸酯，其中酯基部分可以是（ⅰ）C₁～C₈的烷基，该烷基可以是直链或支链的；（ⅱ）含有羟基的C₁～C₈的烷基，该烷基可以是直链或支链的；（ⅲ）含有C₁～C₄烷基取代的苯基，该C₁～C₄的烷基可以是直链或支链，该苯基可以是烷基单取代或多取代的；一个或一个以上的第一种单体以及一个或一个以上的第二种单体即用以合成含有羧基的可形成薄膜的高分子粘合剂。

5.权利要求1所述双层涂布的负性光致抗蚀干膜，其特征在于所述的中间保护层的聚乙烯醇的重量平均分子量为30,000～120,000，醇化度为70～90%。

6.权利要求1所述双层涂布的负性光致抗蚀干膜，其特征在于所述的中间保护层的含有羧基的高分子聚合物为高分子粘合剂。

7.权利要求1所述双层涂布的负性光致抗蚀干膜，其特征在于所述的中间保护层的厚度为1μm～2μm；光阻剂层厚度为12～80μm。

8.权利要求1所述双层涂布的负性光致抗蚀干膜，其特征在于所述的高分子粘合剂可以用悬浮聚合法合成，其产品为固体高分子材料，可溶解于碱性水溶液中，亦可溶于有机溶剂后用于涂布中间保护层；高分子粘合剂也可以用溶液聚合法合成，其产品为高分子溶液，可直接用于涂布中间保护层。

9.权利8中的高分子粘合剂的溶液聚合法合成所用的溶剂为沸点120℃以下的有机溶剂，可以是包括丙酮、丁酮、戊酮在内的酮；可以是包括正丙醚、甲丁醚、乙丁醚、乙二醇二甲醚在内的醚；可以是包括苯、甲苯在内的芳香族有机溶剂；可以是包括己烷、环己烷在内的烃类化合物，可以是包括乙酸乙酯在内的酯类化合物。

10.权利1中的负性光致抗蚀干膜在应用时应先除去覆盖薄膜后热压至覆盖铜箔的基物上，然后除去载体薄膜后在中间保护层上进行曝光。