[发明专利]一种用于校准瞬变电磁场场均匀性的装置有效
| 申请号: | 201210308623.6 | 申请日: | 2012-08-27 |
| 公开(公告)号: | CN102841263A | 公开(公告)日: | 2012-12-26 |
| 发明(设计)人: | 黄建领;沈涛;姚利军 | 申请(专利权)人: | 北京无线电计量测试研究所 |
| 主分类号: | G01R29/08 | 分类号: | G01R29/08 |
| 代理公司: | 北京正理专利代理有限公司 11257 | 代理人: | 张文祎 |
| 地址: | 100854 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 用于 校准 电磁 场场 均匀 装置 | ||
技术领域
本发明涉及电磁场的场均匀性的校准技术领域,特别涉及一种用于校准瞬变电磁场场均匀性的装置。
背景技术
对于射频电磁场,IEC61000系列标准给出了两种电磁场的场均匀性的校准方法,即恒定场强校准法和恒定功率校准法。恒定场强校准法是通过调整前向输出功率建立一个场强恒定的均匀场,然后用一个经校准的场强探头以指定的步长在每个频段对待测区域内的各个点进行测量。恒定功率校准法与之不同的是测量时保持前向输出功率恒定。
对于瞬变电磁场,MIL-STD-461F标准采用了上述恒定场强校准法。但是,恒定场强校准法存在以下不足:
(1)瞬变电磁场由脉冲信号源触发的单脉冲信号产生,为了获得恒定的电磁场,需要反复调节脉冲信号源的输出功率,因此必须既可以准确监测所用脉冲信号源的输出功率,又可以对所用脉冲信号源的输出功率进行微调,对包括脉冲信号源在内的瞬变电磁场产生装置的要求高;
(2)通常需要用高压探头监测脉冲信号源的输出功率,在实际应用中有时很难实现;
(3)校准时间较长,使用不方便。
对于瞬变电磁场,如果采用恒定功率校准法,也存在以下问题:
(1)需要脉冲信号源多次触发输出多个单脉冲信号,各个单脉冲信号的幅度很难完全保持一致,即存在脉冲信号源输出的各个单脉冲信号不稳定的问题,导致瞬变电磁场均匀性校准的准确度降低;
(2)对脉冲信号源输出稳定性的要求导致瞬变电磁场产生装置的成本较高。
用于校准瞬变电磁场的场均匀性的系统通常需要测试多个位置。校准瞬变电磁场的场均匀性时,不但需要支架支撑和固定测试探头,而且需要通过支架调节测试探头的位置。具体地,校准瞬变电磁场的场均匀性时,通常需要通过调节支架来改变固定有探头的测试杆的角度和长度,甚至需要通过调节支架实现测试杆绕固定轴的转动。现有技术中的支架都不能直接实现上述功能,因此在用于校准瞬变电磁场的场均匀性时非常不便。
目前,非常需要一种对包括脉冲信号源在内的瞬变电磁场产生装置要求低、快速、准确且低成本的瞬变电磁场的场均匀性的校准系统。
发明内容
本发明的目的是提供一种用于校准瞬变电磁场场均匀性的装置。
本发明提供的用于校准瞬变电磁场场均匀性的装置包括支撑架、示波器、第一探头和第二探头;
所述支撑架包括底座、转轴、主体架、第一旋转盘、第二旋转盘、第一探头固定装置和第二探头固定装置;
所述第一探头固定于第一探头固定装置上,所述第二探头固定于所述第二探头固定装置上,所述第一探头和所述第二探头与所述示波器电连接;
所述底座包括固定盘、第一座臂和第二座臂,所述第一座臂和所述第二座臂被设置于同一平面内,且在该平面内所述第一座臂与所述第二座臂之间成一夹角,所述固定盘固定于所述第一座臂与所述第二座臂连接处的顶端,所述转轴固定于所述固定盘的中心位置;
所述主体架包括测试杆、第一支杆、第二支杆、第一立柱和第二立柱,所述测试杆的一端与所述转轴可旋转连接且所述测试杆能够绕所述转轴转动,所述第一支杆和所述第二支杆设于所述测试杆的下侧,所述第一支杆和所述第二支杆的顶端连接呈倒置的“V”字形,且所述第一支杆和所述第二支杆的顶端连接处与所述测试杆固接,所述第一立柱和所述第二立柱分别固接于所述测试杆的中间和末端位置,且所述第一立柱和所述第二立柱设于所述测试杆的上侧;
所述第一旋转盘设置于所述第一立柱的顶端且能够绕所述第一立柱转动,所述第二旋转盘设置于所述第二立柱的顶端且能够绕所述第二立柱转动,所述第一探头固定装置设于所述第一旋转盘上,所述第二探头固定装置设于所述第二旋转盘上。
优选地,所述第一支杆底端设有滚轮,所述第二支杆的底端设有滚轮。
优选地,所述第一座臂与所述第二座臂之间的夹角为90°。
优选地,所述装置进一步包括固定于所述固定盘下方的第三探头。
本发明具有如下有益效果:
(1)所述装置对包括脉冲信号源在内的瞬变电磁场产生装置的要求低;
(2)所述装置的支撑架不仅能够用于支撑和固定探头,而且能够用于调节探头的位置;
(3)使用所述装置校准瞬变电磁场的场均匀性时,既不需要反复移动所述装置的支撑架,也不需要通过多个调节机构调节探头的位置,因此所述装置对瞬变电磁场场均匀性的校准速度明显加快;
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