[发明专利]化学气相沉积维修设备有效

专利信息
申请号: 201210307094.8 申请日: 2012-08-24
公开(公告)号: CN102828166A 公开(公告)日: 2012-12-19
发明(设计)人: 汪雯;刘国全;李建敏;郑杰;滕飞 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
主分类号: C23C16/44 分类号: C23C16/44;C23C16/48;C23C16/16
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 化学 沉积 维修 设备
【权利要求书】:

1.一种化学气相沉积维修设备,包括:气体喷射装置,其特征在于,所述气体喷射装置包括:

气体窗口,与储气模块层叠设置,用于形成并透过气孔喷出金属化合物;

所述储气模块,连通辅助气体供应管路,用于向基板喷出辅助气体,其中,所述储气模块的出气口位于所述气体喷射装置的下表面;

通光孔,贯通设置在所述气体喷射装置中,用于透过激光;

所述气孔,设置在透镜下方的所述通光孔的内壁上,用于通过所述气体窗口喷出的所述金属化合物;

所述透镜,设置在所述通光孔内,靠近所述通光孔底部,用于对所述激光进行聚焦,分解所述金属化合物形成金属沉积物,并沉积于所述基板上;

压敏传感器,设置在所述气体喷射装置的下表面,用于通过检测所述辅助气体碰撞所述基板后反弹回所述气体喷射装置的下表面的气体压力,确定所述基板与所述气体喷射装置之间的距离;

控制器,所述控制器与所述压敏传感器连接,用于当所述压敏传感器检测的所述距离小于所设置的预设值时,则增大所述储气模块的辅助气体喷出量。

2.根据权利要求1所述的化学气相沉积维修设备,其特征在于,所述控制器,还用于当所述压敏传感器检测的所述距离小于所设置的预设值时,停止所述气体喷射装置的移动。

3.根据权利要求2所述的化学气相沉积维修设备,其特征在于,所述储气模块层叠于所述气体窗口上方。

4.根据权利要求3所述的化学气相沉积维修设备,其特征在于,在所述通光孔周围,设置有至少两个通孔;所述通孔与所述储气模块连通,并连通所述储气模块的出气口。

5.根据权利要求4所述的化学气相沉积维修设备,其特征在于,所述通孔与所述气体喷射装置的下表面之间呈锐角向外侧倾斜设置。

6.根据权利要求5所述的化学气相沉积维修设备,其特征在于,在所述储气模块的通孔内壁设置有加热电阻丝。

7.根据权利要求2所述的化学气相沉积维修设备,其特征在于,所述气体窗口层叠于所述储气模块上方。

8.根据权利要求6或7所述的化学气相沉积维修设备,其特征在于,在所述储气模块的出气口处设置有电磁阀门,所述电磁阀门与所述控制器连接;

当所述压敏传感器检测到的所述气体喷射装置与基板之间的距离小于预设值时,所述控制器控制所述电磁阀门处于完全打开状态;

当所述压敏传感器检测到的所述气体喷射装置与基板之间的距离大于所述预设值时,所述控制器控制所述电磁阀门处于半开状态。

9.根据权利要求8所述的化学气相沉积维修设备,其特征在于,在所述储气模块的内壁设置有加热电阻丝。

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