[发明专利]一种光学防伪元件及使用该光学防伪元件的产品

权利要求书

1.一种光学防伪元件，该光学防伪元件包括基材、微浮雕结构、颜色功能层和反射层，所述基材具有相互对立的第一表面和第二表面，所述基材的第一表面上至少部分地覆盖有所述微浮雕结构，所述颜色功能层分布在所述微浮雕结构之间的空隙中，所述反射层位于所述基材的第二表面上且至少部分地覆盖所述基材的第二表面，其中，所述微浮雕结构由透明或半透明的具有聚焦功能的成像元件组成而且能够通过所述反射层对所述颜色功能层进行成像。

2.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，所述颜色功能层为透明或半透明结构，所述颜色功能层还至少部分地覆盖所述微浮雕结构。

3.根据权利要求1或2所述的光学防伪元件，其中，所述微浮雕结构与所述反射层之间的距离为所述具有聚焦功能的成像元件的焦距的二分之一。

4.根据权利要求1或2所述的光学防伪元件，其中，所述成像元件的排列为周期性排列、非周期性排列、随机性排列以及局部周期性排列中的一种或其组合。

5.根据权利要求4所述的光学防伪元件，其中，所述周期为10微米至200微米。

6.根据权利要求4所述的光学防伪元件，其中，所述周期为40微米至100微米。

7.根据权利要求1或2所述的光学防伪元件，其中，所述成像元件的焦距为10微米至200微米。

8.根据权利要求1或2所述的光学防伪元件，其中，所述成像元件的焦距为20微米至60微米。

9.根据权利要求1或2所述的光学防伪元件，其中，所述微浮雕结构的加工深度小于15微米。

10.根据权利要求1或2所述的光学防伪元件，其中，所述微浮雕结构的加工深度为0.5微米至10微米。

11.根据权利要求1或2所述的光学防伪元件，其中，所述微浮雕结构之间的空隙小于10微米。

12.根据权利要求1或2所述的光学防伪元件，其中，所述微浮雕结构之间的空隙小于2微米。

13.根据权利要求1或2所述的光学防伪元件，其中，所述微浮雕结构的表面被保护层直接覆盖，所述保护层的折射率小于所述微浮雕结构的折射率，并且两者的折射率的差值不小于0.1。

14.根据权利要求13所述的光学防伪元件，其中，所述保护层的折射率与所述微浮雕结构的折射率的差值不小于0.3。

15.根据权利要求1或2所述的光学防伪元件，其中，所述反射层为油墨、颜料、染料、金属、介质中的一种或几种的组合。

16.根据权利要求1或2所述的光学防伪元件，其中，所述反射层由液晶光变层、零级光变层、共挤光变膜以及形成法布里-泊罗谐振腔的干涉型多层镀层结构中的一种或几种构成。

17.根据权利要求1或2所述的光学防伪元件，其中，所述反射层中形成有镂空图案。

18.根据权利要求1或2所述的光学防伪元件，其中，所述反射层具有能够对反射光进行调制的浮雕结构。

19.根据权利要求1或2所述的光学防伪元件，其中，所述颜色功能层为油墨、颜料、染料中的一种或几种的组合。

20.根据权利要求1或2所述的光学防伪元件，其中，所述颜色功能层为液晶光变层。

21.根据权利要求1或2所述的光学防伪元件，其中，所述颜色功能层中形成有镂空图案。

22.根据权利要求1或2所述的光学防伪元件，其中，所述光学防伪元件还包括位于所述光学防伪元件的一面或两面上的粘结层。

23.根据权利要求1或2所述的光学防伪元件，其中，所述基材的第二表面上形成有光栅结构，所述反射层覆盖在所述光栅结构上。

24.使用根据权利要求1至23中任一项权利要求所述的光学防伪元件的产品。