[发明专利]光致发光器件及其制备方法

权利要求书

1.一种光致发光器件，其特征在于，包括发光基板及设置于所述发光基板上的多个金属微纳结构，所述金属微纳结构为圆柱体、长方体或正方体微纳结构。

2.根据权利要求1所述的光致发光器件，其特征在于，所述多个金属微纳结构等间距地分布于所述发光基板上。

3.根据权利要求2所述的光致发光器件，其特征在于，所述多个金属微纳结构成多行多列分布于所述发光基板上，所述行间距和列间距均为40纳米~1微米。

4.根据权利要求2所述的光致发光器件，其特征在于，所述多个金属微纳结构成圆形分布于所述发光基板上，相邻两个金属微纳结构的间距为40纳米~1微米。

5.根据权利要求2所述的光致发光器件，其特征在于，所述多个金属微纳结构成多个同心且直径成等差数列的圆形分布于所述发光基板上，每一个圆形上的金属微纳结构等间距分布。

6.根据权利要求1所述的光致发光器件，其特征在于，所述金属微纳结构的材质为银、金或金-银合金。

7.根据权利要求1所述的光致发光器件，其特征在于，所述发光基板为发光玻璃、发光透明玻璃陶瓷、发光透明陶瓷或由透明玻璃及层叠于所述透明玻璃上的发光薄膜组成。

8.一种光致发光器件的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

制备发光基板；

在所述发光基板上涂覆光刻胶并进行曝光，以在所述光刻胶上形成多个第一光刻图形，所述第一光刻图形为圆形、长方形或正方形；

进行显影，以在所述光刻胶上形成横截面的形状与所述第一光刻图形相同的多个微孔；

通过磁控溅射在所述多个微孔上沉积金属形成多个金属微纳结构，所述金属微纳结构为圆柱体、长方体或正方体微纳结构；及

除去剩余的光刻胶，得到所述光致发光器件。

9.根据权利要求8所述的光致发光器件的制备方法，其特征在于，所述多个第一光刻图形等间距分布。

10.根据权利要求8所述的光致发光器件的制备方法，其特征在于，所述除去剩余的光刻胶的步骤为在超声波功率为100KHZ、温度为50℃下，在溶剂中超声处理30分钟。