[发明专利]利用有限空间等离子体氧化制备双向化学梯度表面的方法

权利要求书

1.一种利用有限空间等离子体氧化制备双向化学梯度表面的方法，其特征在于所述方法包括如下步骤：

1）基底表面清洗：基底在醇溶液中超声5~10分钟，氮气吹干，并用超纯水清洗，最后浸泡在Piranha溶液中5~10分钟；

2）自组装膜的制备：将清洗好待用的基底浸泡到体积比为0.5~2%硅烷的苯溶液中或0.5~2 mM硫醇的醇溶液中；

3）等离子体氧化过程：在制备好的自组装膜基底上方放置屋脊型的载玻片，然后置于等离子体清洗机中在功率为30~90W的条件下反应1~30秒，得到不同深度的双向化学梯度。

2.    根据权利要求1所述的利用有限空间等离子体氧化制备双向化学梯度表面的方法，其特征在于所述醇溶液为甲醇或乙醇溶液。

3.根据权利要求1所述的利用有限空间等离子体氧化制备双向化学梯度表面的方法，其特征在于所述Piranha溶液为硫酸和双氧水体积比70：30的混合溶液。

4.根据权利要求1所述的利用有限空间等离子体氧化制备双向化学梯度表面的方法，其特征在于所述基底为玻璃基底、硅片基底或金片基底。

5.根据权利要求1所述的利用有限空间等离子体氧化制备双向化学梯度表面的方法，其特征在于所述浸泡时间为1~24小时。

6.根据权利要求1所述的利用有限空间等离子体氧化制备双向化学梯度表面的方法，其特征在于所述硅烷为烷基/氨基硅烷，硫醇为烷基/氨基硫醇。

7.根据权利要求1所述的利用有限空间等离子体氧化制备双向化学梯度表面的方法，其特征在于所述苯溶液为甲苯溶液。

8.根据权利要求1所述的利用有限空间等离子体氧化制备双向化学梯度表面的方法，其特征在于所述屋脊型的载玻片为由两个载玻片粘合形成的“Λ”型空间。

9.根据权利要求1或8所述的利用有限空间等离子体氧化制备双向化学梯度表面的方法，其特征在于所述屋脊型的载玻片的顶角为150~178°。

10.根据权利要求8所述的利用有限空间等离子体氧化制备双向化学梯度表面的方法，其特征在于所述载玻片的长度为0.5~2.5厘米，宽度为1~3厘米。