[发明专利]同时去除砷化镓晶片生产加工废水中砷和COD的处理方法

权利要求书

1.同时去除砷化镓晶片生产加工废水中砷和COD的处理方法，其特征在于具体步骤为：

1)将砷化镓晶片生产加工废水进入调节反应池中，且在调节反应池中的停留时间在1h以上；投加药剂A和药剂B，使调节反应池中混合反应液pH值为2.5～4；

2)将步骤1)中调节反应池中的废水用泵提升至混凝沉淀池，进行序批式混凝沉淀反应，工艺过程依次为进水、加入药剂C、混凝、加入药剂D调节pH值，再加入药剂E，然后沉淀和出水，最后进入中间池；

3)将步骤2)中中间池中的废水用泵提升至序批式活性污泥池，进行好氧生物处理，工艺过程依次为进水、曝气、沉淀和排水，曝气过程投加药剂F，最终出水中砷和COD浓度可同时达到《城镇污水处理厂污染物排放标准》(GB18918-2002)一级B标准。

2.根据权利要求1所述的同时去除砷化镓晶片生产加工废水中砷和COD的处理方法，其特征在于：砷化镓晶片生产加工废水砷浓度为20～100mg/L，COD浓度为1000～3000mg/L，SS浓度为500～800mg/L，二氯异氰尿酸钠消毒剂浓度为300～600mg/L。

3.根据权利要求1所述的同时去除砷化镓晶片生产加工废水中砷和COD的处理方法，其特征在于：药剂A为硫酸亚铁，反应液中亚铁离子浓度为110～160mg/L；药剂B为双氧水，反应液中双氧水浓度为400～600mg/L，双氧水与亚铁离子摩尔比为(4～8)∶1。

4.根据权利要求1所述的同时去除砷化镓晶片生产加工废水中砷和COD的处理方法，其特征在于：药剂C为氯化铁，反应液中最终铁离子浓度为4000～5000mg/L。

5.根据权利要求1所述的同时去除砷化镓晶片生产加工废水中砷和COD的处理方法，其特征在于：药剂D为氢氧化钠，调节溶液pH值为6.5～7.0。

6.根据权利要求1所述的同时去除砷化镓晶片生产加工废水中砷和COD的处理方法，其特征在于：药剂E为聚丙烯酰胺，絮凝时反应液聚丙烯酰胺浓度为3～4mg/L。

7.根据权利要求1所述的同时去除砷化镓晶片生产加工废水中砷和COD的处理方法，其特征在于：药剂F为碳酸钠，使出水碱度为150mg/L。

8.根据权利要求1所述的同时去除砷化镓晶片生产加工废水中砷和COD的处理方法，其特征在于：序批式活性污泥池进水时间1.5h、曝气时间6.5h、沉淀时间1.5h、排水时间2.5h，一个周期为12h，污泥浓度为3000～3500mg/L，污泥停留时间8～12d。