[发明专利]一种厚度一致的氧化膜形成技术有效
| 申请号： | 201210278802.X | 申请日： | 2012-08-07 |
| 公开（公告）号： | CN103572350A | 公开（公告）日： | 2014-02-12 |
| 发明（设计）人： | 吕林兴;刘健;李露;黄奎;熊远根 | 申请（专利权）人： | 中国振华（集团）新云电子元器件有限责任公司 |
| 主分类号： | C25D11/26 | 分类号： | C25D11/26 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 王朋飞 |
| 地址： | 550018 贵州省*** | 国省代码： | 贵州;52 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 厚度 一致 氧化 形成 技术 | ||
【权利要求书】：
1.一种厚度一致的氧化膜形成技术，其特征在于：它包括以下步骤：
（1）将经过烧结的钽阳极块均匀地点焊在导电金属条上，然后将导电金属条依次安放在支架上；
（2）将安放好导电金属条的支架放入电解槽中，电解槽中预先盛满配置放的电解液；
（3）用导线制作一个“王”字形导线框，电线框的大小与支架大小相当，“王”字导线框的中心位置即为电源接线点；
（4）将“王”字导线框重叠放置在支架上并与点焊有钽阳极块的金属条紧密接触；
（5）将电源正极接到“王”字导线框的中心位置，电源负极与电解槽连接；
（6）接通电源后进行介质膜形成处理。
2.根据权利要求1所述的厚度一致的氧化膜形成技术，其特征在于：所述的电解液为体积浓度为0.1%的磷酸溶液。
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