[发明专利]电容触摸体及其制造方法无效
| 申请号： | 201210277685.5 | 申请日： | 2012-08-06 |
| 公开（公告）号： | CN102830872A | 公开（公告）日： | 2012-12-19 |
| 发明（设计）人： | 谢循;张耀国 | 申请（专利权）人： | 泰凌微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/044 | 分类号： | G06F3/044 |
| 代理公司： | 上海晨皓知识产权代理事务所(普通合伙) 31260 | 代理人： | 卢刚 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 电容 触摸 及其 制造 方法 | ||
1.一种电容触摸体，其特征在于，包含：支撑结构和位于所述支撑结构之上的电容格点；其中，所述支撑结构为立体结构。
2.根据权利要求1所述的电容触摸体，其特征在于，所述支撑结构为球体、半球体或椭球体中的任一种。
3.根据权利要求1所述的电容触摸体，其特征在于，所述电容格点呈菱形、方格形或者犬牙交叉形分布中的任一种。
4.根据权利要求1所述的电容触摸体，其特征在于，所述电容触摸体在获取触摸信息时，采用自感方式或互感方式中的任一种进行电容检测。
5.根据权利要求1至4任一项所述的电容触摸体，其特征在于，所述电容触摸体还包含保护结构，所述保护结构覆盖于所述电容格点之上。
6.一种电容触摸体的制造方法，其特征在于，包含以下步骤：
提供支撑结构；其中，所述支撑结构为立体结构；
在所述支撑结构之上制作电容格点。
7.根据权利要求6所述的电容触摸体的制造方法，其特征在于，在所述提供支撑结构的步骤中，将所述支撑结构制成球体、半球体或椭球体中的任一种。
8.根据权利要求6所述的电容触摸体的制造方法，其特征在于，所述在所述支撑结构之上制作电容格点的步骤中，将所述电容格点制成呈菱形、方格形或者犬牙交叉形分布中的任一种。
9.根据权利要求6所述的电容触摸体的制造方法，其特征在于，在获取触摸信息时，采用自感方式或互感方式中的任一种进行电容检测。
10.根据权利要求6至9任一项所述的电容触摸体的制造方法，其特征在于，所述在所述支撑结构之上制作电容格点的步骤之后，还包含以下步骤：
制作保护结构，将所述电容格点包裹于所述保护结构之内。
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