[发明专利]紫外线消毒面罩无效

专利信息
申请号: 201210277479.4 申请日: 2012-08-06
公开(公告)号: CN103566501A 公开(公告)日: 2014-02-12
发明(设计)人: 张小伟;王培;温源 申请(专利权)人: 上海广茂达光艺科技股份有限公司
主分类号: A62B18/02 分类号: A62B18/02
代理公司: 上海智信专利代理有限公司 31002 代理人: 朱水平;杨东明
地址: 201108 上*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 紫外线 消毒 面罩
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种卫生用品,特别涉及一种紫外线消毒面罩。

背景技术

随着LED技术不断走向成熟,其应用范围日益扩大。而紫外线LED相比传统汞蒸气发光的紫外线光源,具有体积小、无汞污染、寿命长、杀菌效率高的优势。因此使其能更加广泛的应用在各种领域,紫外线消毒面罩也是其中的一项应用。

光触媒做为一种抑菌涂料已广泛的应用在各个领域。它涂布于基材表面,干燥后形成薄膜。在特定波长的光照射下,它能够与水或容存的氧反应,产生氢氧根自由基(·OH)和超级阴氧离子(·O)。从而产生强烈催化降解功能:能有效杀灭多种细菌,抗菌率高达90%以上,并能将细菌或真菌释放出的毒素分解及无害化处理;同时可以将各种有害化学物质、恶臭物质分解或无害化处理,达到净化空气、抗污除臭的作用。在此反应过程中光触媒本身不发生变化和损耗,具有良好的持续性,同时它本身无毒以及最终的反应产物为二氧化碳、水和其他无害物质,不会产生二次污染。

现有技术中,一种紫外线消毒口罩通常为紫外线自动消毒光触媒口罩。它包含可附着光触媒再生的面罩和控制构件。上述装置是通过提供能特定波段的紫外线(350nm~400nm),激发光触媒的氧化分解作用。由于该波段范围的紫外线杀菌能力较弱,因此该面罩的杀菌能力比较单一,只是发挥了光触媒的氧化分解特性。另一种具有多层式滤材的灭菌口罩是利用外部照射的紫外线或可见光激发光触媒的氧化作用来进行杀菌,但由于可见光中可被光触媒利用的紫外线光很少,只有3%~5%左右,因此无法充分发挥光触媒的氧化分解特性,杀菌性能比较差。

发明内容

本发明要解决的技术问题是为了克服现有技术中的紫外线消毒面罩发出的紫外线波长单一,杀菌能力差的缺陷,提供一种其紫外线LED有至少两种不同的发射光主波长的紫外线消毒面罩。

本发明是通过下述技术方案来解决上述技术问题的:一种紫外线消毒面罩,其包括一支撑件、至少两个紫外线LED和一面罩,其特点在于,所述紫外线LED固设于所述支撑件内部,且至少两个所述紫外线LED的发射光具有不同的主波长。

较佳地,所述紫外线LED均匀分布在所述支撑件内。均匀分布的紫外线LED可以使所述支撑件内各个部分受到更均匀的紫外线照射,使消毒更彻底。

较佳地,在所述支撑件内壁上对称嵌有两组发射光的主波长不同的紫外线LED,且每组紫外线LED的数量为至少一个。

较佳地,每一所述紫外线LED的发射光的主波长范围为100nm-400nm。

较佳地,至少有一紫外线LED的发射光的主波长为254nm,且至少有一紫外线LED的发射光的主波长为365nm。波长为254nm的紫外线具有良好的杀菌作用。

较佳地,所述支撑件的内测涂有一层用于抑菌的涂料。

较佳地,所述涂料为TiO2。通过大量实验得出,365nm波长的紫外线是激活以TiO2为半导体介质的光触媒较佳选择光源,具有较强的光化学反应效果,能够极大增强所述紫外线消毒面罩的杀菌及空气污染物的去除能力。

较佳地,所述支撑件为柱状结构。

本发明的积极进步效果在于:本发明采用至少两个具有不同主波长的紫外线LED,一方面利用紫外线自身的杀菌能力,另一方面通过紫外线激发光触媒的有效氧化分解特性,起到广谱杀菌的作用。同时还可以通过选择不同波长的紫外线LED组合对特定空气环境所含的污染物及微生物具有针对性的去除和杀灭。

附图说明

图1为本发明的一较佳实施例中的紫外线消毒面罩的结构示意图。

图2为图1中的紫外线消毒面罩的剖视图。

图3为图1中的紫外线消毒面罩的剖面正视图。

具体实施方式

下面结合附图给出本发明较佳实施例,以详细说明本发明的技术方案。

如图1-图3所示,本发明的紫外线消毒面罩包括一支撑件1、至少两个紫外线LED2、一电路板3、一控制装置4、一电源5和一面罩6。在本发明的一较佳实施例中,在支撑件1的内壁上对称镶嵌两组主波长不同的紫外线LED2,每组两颗。应当认为,紫外线LED2的数量与位置安排并不局限于本实施例中的设计,可以是其它形式。与紫外线LED2连接的电路板3、控制装置4、电源5设置于支撑件1的内外壁之间,面罩6固定设于支撑件1的一端。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海广茂达光艺科技股份有限公司,未经上海广茂达光艺科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210277479.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top