[发明专利]检测液晶涂布状态的装置及具有该装置的液晶涂布机

权利要求书

1.一种设置在液晶涂布机上用于检测液晶涂布状态的装置，所述装置包括：

主体，所述主体包括光学窗口；

光源，所述光源设置在所述主体中，第一偏振板设置在所述光源的光输出口上；以及

检测照相机，所述检测照相机包括第二偏振板，由所述第一偏振板偏振的光辐射到基板上、从所述基板反射、然后入射到所述第二偏振板。

2.根据权利要求1所述的装置，进一步包括：

光学装置，所述光学装置使由所述光源输出的光经过所述光学窗口反射到所述基板，并使从所述基板反射的光穿过所述检测照相机。

3.根据权利要求1所述的装置，其中，所述主体的光学窗口与用于排出液晶的涂布头单元间隔开。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的装置，其中，所述第一偏振板的偏振方向不同于所述第二偏振板的偏振方向。

5.一种设置在液晶涂布机上用于检测液晶涂布状态的装置，所述装置包括：

主体，所述主体包括彼此间隔开的第一光学窗口和第二光学窗口，所述第一光学窗口和所述第二光学窗口中每个朝向基板开口；

第一光源，所述第一光源设置在所述主体中并包括主第一偏振板，所述主第一偏振板使偏振的光经过所述第一光学窗口辐射到所述基板上；

第二光源，所述第二光源设置在所述主体中并包括次第一偏振板，所述次第一偏振板使偏振的光经过所述第二光学窗口辐射到所述基板上；以及

检测照相机，所述检测照相机包括第二偏振板，由所述第一光源或所述第二光源辐射到所述基板上的光从所述基板反射，然后入射到所述检测照相机。

6.根据权利要求5所述的装置，进一步包括：

第一光学装置，所述第一光学装置将从所述第一光源发出的光反射到所述基板，并使从所述基板反射的光穿过所述检测照相机。

7.根据权利要求6所述的装置，进一步包括：

第二光学装置，所述第二光学装置使从所述第二光源发出的光穿过所述基板，并水平地反射从所述基板反射的光；以及

反射镜，所述反射镜将从所述第二光学装置反射的光传输到所述检测照相机。

8.根据权利要求7所述的装置，其中，所述反射镜包括反射从所述第二光学装置反射的光的第一反射镜、以及再次反射由所述第一反射镜反射的光的第二反射镜，所述装置进一步包括：

第三光学装置，所述第三光学装置将从所述第二反射镜反射的光反射到所述检测照相机。

9.根据权利要求8所述的装置，其中，所述第三光学装置设置在所述第二光学装置上方，所述第三光学装置将穿过所述第二光学装置的光传输到所述检测照相机。

10.根据权利要求5所述的装置，其中，分隔壁设置在所述第一光源与所述第二光源之间，所述分隔壁将所述检测照相机的图像传感器获得的图像的区域分开。

11.根据权利要求10所述的装置，其中，所述第一光学装置设置在所述第一光源下方，以允许从所述第一光源发出的光穿过所述第一光学窗口并允许水平地反射从所述基板反射的光，设置第三反射镜以将从所述第一光学装置反射的光传输到所述检测照相机。

12.根据权利要求11所述的装置，其中，所述第二光学装置设置在所述第二光源下方，以使从所述第二光源发出的光穿过所述第二光学窗口并使从所述基板反射的光水平地反射，设置第四反射镜以将从所述第二光学装置反射的光传输到所述检测照相机。

13.一种用于将液晶涂布到基板上的液晶涂布机，包括：

主框架；

托台，所述托台设置在所述主框架的上部的预定位置处以支撑所述基板；

支撑框架，所述支撑框架设置在所述主框架的上部的预定位置处；

涂布头单元，所述涂布头单元设置在所述支撑框架的预定位置处以涂布液晶；以及

涂布状态检测装置，所述涂布状态检测装置如权利要求1至3和权利要求5至12中任一项所述。

14.根据权利要求13所述的液晶涂布机，其中，所述涂布头单元是喷墨头。