[发明专利]一种高阻隔尼龙薄膜及制备方法无效
申请号: | 201210270729.1 | 申请日: | 2012-08-01 |
公开(公告)号: | CN102794968A | 公开(公告)日: | 2012-11-28 |
发明(设计)人: | 区广辉;郭燕雄;林燕;张航;刘磊;冯润财;张广强 | 申请(专利权)人: | 佛山佛塑科技集团股份有限公司 |
主分类号: | B32B27/34 | 分类号: | B32B27/34;B32B27/12;B29C69/00;B29C47/06;B29C55/14;B29L7/00;B65D65/40 |
代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人: | 冯剑明 |
地址: | 528000 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 阻隔 尼龙 薄膜 制备 方法 | ||
1.一种高阻隔尼龙薄膜,其特征在于:其为三层共挤结构薄膜,并且至少一层的基体为MXD6尼龙或MXD6尼龙与非MXD6的其他尼龙的混合物。
2.一种高阻隔尼龙薄膜,其特征在于:其为两层共挤结构薄膜,并且至少一层的基体为MXD6尼龙或MXD6尼龙与非MXD6的其他尼龙的混合物。
3.根据权利要求1或2所述的一种高阻隔尼龙薄膜,其特征在于:所述的非MXD6的其他尼龙为脂肪族尼龙、脂肪-芳香族尼龙、芳香族尼龙中的至少一种。
4.根据权利要求1所述的一种高阻隔尼龙薄膜,其特征在于:所述三层共挤结构薄膜的厚度为5-100μm。
5.根据权利要求2所述的一种高阻隔尼龙薄膜,其特征在于:所述两层共挤结构薄膜的厚度为5-100μm。
6.权利要求1所述的一种高阻隔尼龙薄膜的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:
1)将各层的原料分别加入三台挤出机中熔融,通过模头共挤成三层共挤结构;
2)冷却成型得到粗品尼龙薄膜;
3)将粗品尼龙薄膜进行纵向拉伸、横向拉伸、热定型、收卷得到产品。
7.权利要求2所述的一种高阻隔尼龙薄膜的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:
1)将各层的原料分别加入两台挤出机中熔融,通过模头共挤成两层共挤结构;
2)冷却成型得到粗品尼龙薄膜;
3)将粗品尼龙薄膜进行纵向拉伸、横向拉伸、热定型、收卷得到产品。
8.根据权利要求6或7中的任一项所述的一种高阻隔尼龙薄膜的制备方法,其特征在于:步骤1)中,熔融温度为200℃~300℃,模头的温度为200℃~300℃;步骤2)中,冷却成型的温度为20~45℃。
9.根据权利要求6或7中的任一项所述的一种高阻隔尼龙薄膜的制备方法,其特征在于:步骤3)中,纵向拉伸温度为45~140℃,纵向拉伸比为150%~350%;横向拉伸温度为80~170℃,横向拉伸比为170%~380%。
10.根据权利要求6或7中的任一项所述的一种高阻隔尼龙薄膜的制备方法,其特征在于:步骤3)中,热定型温度为100~230℃。
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