[发明专利]涂覆组合物、抗指印薄膜及电子产品

权利要求书

1.一种涂覆组合物，所述涂覆组合物包括硅烷低聚物，硅烷低聚物具有：

R₁基团，由作为式1的[R_aO-(CH₂CH₂O)_p-R_b-]表示，其中，R_a选自于由氢和具有1至3个碳原子的烷基组成的组，R_b选自于由具有5至20个碳原子的烷基、具有5至20个碳原子的烯基、具有5至20个碳原子的炔基、具有5至20个碳原子的芳基、具有6至20个碳原子的芳烷基、具有5至20个碳原子的环烷基和具有5至20个碳原子的杂烷基组成的组，p是1至12的整数；以及

R₂基团，由作为式2的(R_c)_q表示，其中，R_c是具有3至20个碳原子的环烷基，q是1至3的整数。

2.根据权利要求1所述的涂覆组合物，其中，R₁基团是从由甲氧基乙氧基十一烷基、甲氧基三甘醇氧基-十一烷基、3-甲氧基乙氧基-4-乙酰氧基环己基乙基、16-(2-甲氧基-乙氧基)十六烷基和它们的衍生物组成的组中选择的至少一种。

3.根据权利要求1所述的涂覆组合物，其中，R₂基团是从由3-环戊二烯基丙基、二环戊基、环戊基、环己基、环辛基和它们的衍生物组成的组中选择的至少一种。

4.根据权利要求1所述的涂覆组合物，其中，硅烷低聚物具有100至10000的分子量。

5.根据权利要求1所述的涂覆组合物，其中，硅烷低聚物具有下式3的结构，

式3

其中，m和n均独立地为1至10的整数。

6.一种抗指印薄膜，所述抗指印薄膜通过在基底的表面上涂覆根据权利要求1所述的涂覆组合物形成。

7.根据权利要求6所述的抗指印薄膜，其中，使用硅烷低聚物形成的薄膜对水具有60度至80度的接触角，对二碘甲烷具有0度至45度的接触角。

8.一种涂覆组合物，所述涂覆组合物包含：

按重量计45％至49.5％的具有由作为式1的[R_aO-(CH₂CH₂O)_p-R_b-]表示的R₁基团的硅烷化合物，其中，R_a选自于由氢和具有1至3个碳原子的烷基组成的组，R_b选自于由具有5至20个碳原子的烷基、具有5至20个碳原子的烯基、具有5至20个碳原子的炔基、具有5至20个碳原子的芳基、具有6至20个碳原子的芳烷基、具有5至20个碳原子的环烷基和具有5至20个碳原子的杂烷基组成的组，p是1至12的整数；

按重量计45％至49.5％的具有由作为式2的(R_c)_q表示的R₂基团的硅烷化合物，其中，R_c是具有3至20个碳原子的环烷基，q是1至3的整数；以及

按重量计1％至10％的H₂O或酸。

9.根据权利要求8所述的涂覆组合物，其中，R₁基团是从由甲氧基乙氧基十一烷基、甲氧基三甘醇氧基-十一烷基、3-甲氧基乙氧基-4-乙酰氧基环己基乙基、16-(2-甲氧基-乙氧基)十六烷基和它们的衍生物组成的组中选择的至少一种。

10.根据权利要求8所述的涂覆组合物，其中，R₂基团是从由3-环戊二烯基丙基、二环戊基、环戊基、环己基、环辛基和它们的衍生物组成的组中选择的至少一种。

11.根据权利要求8所述的涂覆组合物，其中，涂覆组合物具有100至10000的分子量。

12.一种抗指印薄膜，所述抗指印薄膜通过在基底的表面上涂覆根据权利要求8所述的涂覆组合物形成。

13.根据权利要求12所述的抗指印薄膜，其中，所述抗指印薄膜对水具有60度至80度的接触角，对二碘甲烷具有0度至45度的接触角。