[发明专利]一种液晶显示面板

说明书

技术领域

本发明涉及一种液晶显示面板，尤其是一种TN型液晶显示面板。

背景技术

TN(Twisted Nematic)型的液晶显示技术是液晶显示器中最基本的，而之后其它种类的液晶显示器也是在TN型基础上加以改良。其显像原理是将液晶材料置于两片贴附光轴垂直偏光板之透明导电玻璃间，液晶分子会依配向膜的细沟槽方向依序旋转排列，如果电场未形成，光线会顺利的从偏光板射入，依液晶分子旋转其行进方向，然后从另一边射出。如果在两片导电玻璃通电之后，两片玻璃间会造成电场，进而影响其间液晶分子的排列，使其分子棒进行扭转，光线便无法穿透，进而遮住光源。这样所得到光暗对比的现象，叫做扭转式向列场效应，简称TNFE(twisted nematic field effect)。由于TN型液晶面板生产成本相对低廉，因此“TN”技术的液晶面板目前被广泛运用于中、低端液晶显示器之中。

图1所示为现有TN型液晶显示阵列基板结构示意图，阵列基板10包括：扫描线11、与扫描线11纵横交错的数据线12、存储电容13、遮光线14、像素电极15、以及薄膜晶体管16，所述扫描线11与数据线12限定的最小单元是像素单元，所述像素电极15与薄膜晶体管16均位于像素单元内，薄膜晶体管16一侧与数据线12电学连接，另一侧与像素电极15连接。

图2所示为现有TN型液晶显示彩膜基板的结构示意图，彩膜基板20的像素结构包括黑色矩阵21和位于黑色矩阵21内具有RGB三色的色区22。

由于TN型为常白模式，在显示画面时，在阵列基板20的像素电极15与相邻的扫描线11及数据线12周边区域因为没有电压控制，会导致漏光现象，形成漏光区域17和18。

图3所示为现有技术的光线行进路线，当给液晶高电压时，像素区域的液晶30站立，画面为黑画面。黑色矩阵21和存储电容13起到遮挡像素非正常工作区域的光线，防止漏光的作用。

现有技术是在阵列基板上像素电极两侧制备遮光线14，而对应的彩膜基板色区22周边制作黑色矩阵（BM）21，黑色矩阵21与阵列基板像素非正常工作区域的相对位置保持在一定的管控范围内，可以避免漏光，但彩膜基板上增加黑色矩阵会导致工艺增加，同时像素开口率减小。

发明内容

本发明的目的是提供一种降低漏光、同时增加像素开口率、降低成本的液晶显示面板。

本发明提供的一种液晶显示面板，包括：阵列基板、彩膜基板、以及夹设在阵列基板与彩膜基板之间的液晶，阵列基板包括：扫描线、数据线、以及由扫描线和数据线交叉限定的若干像素单元，每个像素单元包括薄膜晶体管和像素电极、以及配向膜；所述每个像素单元还包括位于像素电极区域内的像素工作区、以及位于像素工作区以外的非像素工作区，每个像素工作区的面积小于每个像素电极的面积，且配向膜在像素工作区的配向方向与在非像素工作区的配向方向垂直；彩膜基板包括空白区域、位于空白区域上的若干色区、以及配向膜，所述配向膜在彩膜基板上的配向方向与阵列基板的非像素工作区的配向方向相同。

本发明又提供一种液晶显示面板，包括：阵列基板、彩膜基板、以及夹设在阵列基板与彩膜基板之间的液晶，彩膜基板包括：空白区域、位于空白区域上的若干色区、以及配向膜，所述每个色区具有三个子色区，所述每个子色区设有位于子色区区域内的像素工作区、以及位于像素工作区以外的非像素工作区，每个像素工作区的面积小于每个子色区的面积，配向膜在像素工作上的配向方向与在非像素工作区的配向方向垂直；阵列基板保密：扫描线、数据线、以及由扫描线和数据线交叉限定的若干像素单元，每个像素单元包括薄膜晶体管和像素电极、以及配向膜，配向膜在阵列基板上的配向方向与彩膜基板的非像素工作区的配向方向相同；

本发明将阵列基板或彩膜基板分为像素工作区和非像素工作区，通过将配向膜在像素工作区的配向方向与在非像素工作区的配向方向垂直，彩膜基板没有设置黑色矩阵，并将配向膜在彩膜基板或阵列基板上的配向方向与阵列基板的非像素工作区的配向方向相同，从而可以有效的降低TN型液晶的漏光现象，减少了制程中的BM制作和遮光线的制作，有效的减少了工艺，降低了成本。

附图说明

图1为现有阵列基板的结构示意图；

图2为现有彩膜基板的结构示意图；

图3为现有液晶显示面板的结构示意图；

图4为本发明阵列基板的结构示意图；

图5为与图4对应的彩膜基板的结构示意图；

图6为与图4对应的阵列基板的另一结构示意图；